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马鹿 发表于 2024-9-15 04:18 - y; s+ F; N& B% J我还以为你才30多岁。。。
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[LV.4]金丹
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moletronic 发表于 2024-9-16 09:46 2 ]7 |. ~3 G, `6 M3 F公布的参数只能确定的说解决了65nm的有无问题,对于代工厂来说要不要用还有几个关键参数没说。比如生产速度 ...
老财迷 发表于 2024-9-15 21:19 . ]6 d7 w( Y0 o感谢感谢- a! `9 h: T& Z' H4 f 2 U0 s- j8 r D! J工信部公布的是:2.1.6 氟化氩光刻机 晶圆直径:300mm;照明波长:193nm;分辨率≤ ...
晨枫 发表于 2024-9-16 14:00( U' S% l- J9 s. K 也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!+ u. s8 C9 ]- E' e R( J2 V 8 x9 U2 u% U/ y$ t9 q3 f. ] 个人感觉:相比于前一阵 ...
moletronic 发表于 2024-9-16 07:42) t( Z+ D8 ?; i" s EUV没有透镜,只有反射镜,整个光学系统完全不同。目前看不会再搞浸水了。 ...
沉宝 发表于 2024-9-16 12:46! H1 S8 u3 z0 ] 不存在28nm光刻机,只有28nm工艺节点。. [+ e! k+ W8 h' Z4 [+ w% ? 9 d3 J/ ^% @0 } 从光刻机所用的光源上来说,只有 193 nm (ArF激光) 和 13.5 nm ( ...
晨枫 发表于 2024-9-16 11:21! k1 J( Z/ m% D) B 也就是说,EUV用浸水没有用?
moletronic 发表于 2024-9-16 14:386 \! }; c( @- M) q7 t0 y 理论上有用,但目前没看到在路线图上。估计是水对EUV的吸收太大,本来EUV光源的强度就小。 ...
晨枫 发表于 2024-9-16 12:39 n. S: g7 U: [( o: C9 K 是哦,连透镜都不能用,水可能更加不行了
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