TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
---|
签到天数: 351 天 [LV.8]合体
|
感谢感谢 $ [6 J+ I% J3 H0 L! Z: Z2 R
' d9 u' u1 `9 l. r4 c( G9 B8 F工信部公布的是:2.1.6 氟化氩光刻机 晶圆直径:300mm;照明波长:193nm;分辨率≤65nm;套刻≤8nm& `6 G7 x: f5 b3 C2 Y+ u, W
1 v3 ^; W- ~# y按照老兄的科普,我理解,现在有一台氟化氩光刻机,使用波长为193nm的ArF激光(氟化氩激光),300mm的晶圆,加上套刻精度≤8nm,以及其它技术手段,能生产65nm的芯片了。就是俗称的65nm光刻机。
: B) A0 m+ v. k' v& C确实还属于比较“菜”的 当然,工信部把它放在《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录》公布出来,应该是全国产了,这是我们自己的 - h4 p/ r7 B s
* d+ F; U' H4 Z" u; X* z延伸一下老兄的科普,“按照公式193nm对应的极限是90nm”,假设“国内的浸水还在测试”为真,则从90nm做到65nm没有通过“浸水”,而是通过别的技术,可能是【2. 光学临近矫正(OPC)、3. Double-Patterning、4. FinFet/GAA】中的一种或多种。
0 N5 P8 j5 g3 L+ f- ?那如果突破了“浸水”,就可以做到65nm/1.44=45nm了。9 S$ G" f, h9 ~" ?
2 M5 e' [6 l0 f( }( o: Z8 H. }' w另外,在工信部的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录》中,https://www.miit.gov.cn/zwgk/zcw ... 7d635932a464ee.html, H' y; A! x$ h- W( k
和芯片相关的远不只这一个光刻机,还有很多项:
|0 q9 u! `) J2.1集成电路生产装备$ G# @0 ?; i( ^: P
2.1.1硅外延炉 晶圆直径:300mm;工艺节点等于或优于28nm;应用材料:硅、锗硅8 w: {, D w! a; a1 J
2.1.2湿法清洗机 晶圆直径:300mm;工艺节点优于28nm;用于关键层清洗
: d% j& B0 J- T5 v2.1.3氧化炉 晶圆直径:300mm;工艺节点等于或优于28nm
, V" @8 Z3 q: B* {5 H0 k; g; Y2.1.4涂胶显影机 晶圆直径:300mm;工艺节点等于或优于28nm;用于关键层涂胶显影
7 m* i1 q& U& q! \4 Z8 }9 h) X+ g) k2.1.5氟化氪光刻机 晶圆直径:300mm;照明波长:248nm;分辨率≤110nm;套刻≤25nm3 w2 }8 {% `- f* _ }9 s. L k
2.1.6氟化氩光刻机 晶圆直径:300mm;照明波长:193nm;分辨率≤65nm;套刻≤8nm& {3 o- W; C3 C% h) V L2 B
2.1.7高能离子注入机 晶圆直径:300mm;注入均匀性≤0.5%;能量范围≥1MeV;能量纯度:99.9%
" ^: N1 G" W. ~0 K! R; p2.1.8低能离子注入机 晶圆直径:300mm;能量范围:200eV~50KeV;注入剂量:5×10^13~5×10^16 ions/cm²;束流大小:0.5~30mA
: x6 w$ ]) u2 m( r$ n0 i: W2.1.9等离子干法刻蚀机 晶圆直径:300mm;工艺节点等于或优于28nm;用于关键层刻蚀
, v, i) h; a- o8 R4 P+ b6 Q9 R2.1.10特种金属膜层刻蚀机刻蚀 晶圆规格:12英寸;CD1σ均匀性(片内、片间、批间)≤3%;MTJ特征CD:25~80nm;MTJ侧壁损伤≤2nm;MTJ侧壁陡直度≥80°
^5 j/ g, |1 U. M; @) G' P- J1 O* O2.1.11化学气相沉积装备 晶圆直径:300mm;工艺节点等于或优于28nm;用于关键层沉积0 W9 V% k% N* h' W% Y6 v
2.1.12物理气相沉积装备 晶圆直径:300mm;工艺节点等于或优于28nm;用于关键层沉积+ M9 w) v% Q3 C6 y' P% g
2.1.13化学机械抛光机 , X) j, i) S% h! e) \
铜抛光:晶圆直径:300mm;工艺节点等于或优于14nm;片内及片间非均匀性≤5%;抛光速率>5000Å/min
8 p( Y3 g7 T$ _0 |1 D+ z4 [$ ~ 钨抛光:晶圆直径:300mm;工艺节点等于或优于14nm;片内及片间非均匀性≤5%;抛光速率≥2000Å/min; p0 c. s) c+ r8 h" j. i
铝抛光:晶圆直径:300mm;工艺节点等于或优于28nm;片内及片间非均匀性≤5%;抛光速率≥2500Å/min; R# [. {1 t; `% ]1 q( D
介质抛光:晶圆直径:300mm;工艺节点等于或优于28nm;片内及片间非均匀性≤5%;抛光速率≥1000Å/min
# F9 k, c9 g$ E. M* ^8 _4 _2.1.14激光退火装备 晶圆直径:300mm;工艺节点等于或优于28nm
9 k# e O% }: G6 h/ ]3 a2.1.15光学线宽量测装备 动态重复性:宽度≤0.1nm,高度≤0.15nm,角度≤0.08°;准确性:线性度≥0.9,斜率:within1±0.1;表面颗粒增加≤4颗@>30nm9 l W7 C* m& M2 b1 W
7 G3 o" I$ W, r% _3 o很有几项明确说了“工艺节点等于或优于28nm”,甚至有“工艺节点等于或优于14nm”的。' s( h z* s- p( ~
|
评分
-
查看全部评分
|