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老财迷 发表于 2024-9-15 21:191 z5 b4 l6 ^6 l, D# W1 b
感谢感谢6 q7 l8 p: K1 G; g9 I% F' A: q
, S' V5 U- [( N, j5 r y+ X" y6 _5 Z工信部公布的是:2.1.6 氟化氩光刻机 晶圆直径:300mm;照明波长:193nm;分辨率≤ ...
, G" U4 P5 n1 Q2 O0 }$ N9 }! j也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
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个人感觉:相比于前一阵的绝对保密,现在放出这消息肯定是有用意的。
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% d$ i' U S1 l8 ~- g7 J+ j8 }1、内行人一看就知道,还在65nm
+ e' M* L1 O% R1 K: N% n6 x/ K2、没说的就不知道到了哪一步,而中国肯定不会满足于65nm3 r: V/ z( Z# t9 F. r: ?
3、一旦这一关过去,下一关应该是28nm光刻机(咳咳,我知道这说法要被内行人狂扁,你知道我的意思,暂且手下留情吧),但说中国还有15年的落后可能误导,追赶总是更快,尤其是这在现在根本不是最领先水平" F+ @, S8 |, T9 `
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然后就要等EUV了。
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, Q- O, f6 z9 Z, \- [# J0 C# n5 ]! c会不会中国人首先解决光源,索性一步到位EUV,但干式先行?不是说俄罗斯EU V光源给力吗?6 o( D- }- F& c, V$ T9 Q
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在一段时间里,一旦中国28nm全国产化,芯片爆产能就有工装保障了。这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。 |
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