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[LV.Master]无
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[LV.9]渡劫
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马鹿 发表于 2024-9-15 04:18$ k& M6 |' M, i$ P) t 我还以为你才30多岁。。。
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[LV.4]金丹
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[LV.8]合体
moletronic 发表于 2024-9-16 09:46/ ?6 q6 F9 P- b! n2 C 公布的参数只能确定的说解决了65nm的有无问题,对于代工厂来说要不要用还有几个关键参数没说。比如生产速度 ...
老财迷 发表于 2024-9-15 21:19( B) p- Z4 I: T! W- t 感谢感谢4 f5 [" }, |) `9 Y& U1 F* S & T! r* `4 ^5 H 工信部公布的是:2.1.6 氟化氩光刻机 晶圆直径:300mm;照明波长:193nm;分辨率≤ ...
晨枫 发表于 2024-9-16 14:00: l6 h- a& ~; j6 }" D 也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!7 a: K) ?( r A8 d6 K7 N! t : V* y, Q4 n; T/ k5 ?6 K. z/ j 个人感觉:相比于前一阵 ...
moletronic 发表于 2024-9-16 07:42* [ J9 [& q% t EUV没有透镜,只有反射镜,整个光学系统完全不同。目前看不会再搞浸水了。 ...
沉宝 发表于 2024-9-16 12:46+ t9 E5 W! Y' M m 不存在28nm光刻机,只有28nm工艺节点。$ i9 @+ T& ?2 n' ~8 ? ( g6 @1 `, H3 F* \0 x7 b从光刻机所用的光源上来说,只有 193 nm (ArF激光) 和 13.5 nm ( ...
晨枫 发表于 2024-9-16 11:21) A* @& C5 F, C( q6 y/ x6 B; b 也就是说,EUV用浸水没有用?
moletronic 发表于 2024-9-16 14:38 8 i3 Q9 O& Q. M+ i* [0 k理论上有用,但目前没看到在路线图上。估计是水对EUV的吸收太大,本来EUV光源的强度就小。 ...
晨枫 发表于 2024-9-16 12:393 e& w0 y! K H$ l 是哦,连透镜都不能用,水可能更加不行了
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