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马鹿 发表于 2024-9-15 04:182 t% w! h; |4 Y9 l2 i( { 我还以为你才30多岁。。。
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[LV.4]金丹
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moletronic 发表于 2024-9-16 09:46 5 Z. g( W$ \8 P0 q2 A6 ?公布的参数只能确定的说解决了65nm的有无问题,对于代工厂来说要不要用还有几个关键参数没说。比如生产速度 ...
老财迷 发表于 2024-9-15 21:19 N/ e6 n0 N, V! G# A6 G/ }- W感谢感谢 S0 V, E# b5 \) Q9 s& X' v 6 L' ^' p6 j& X' \* G# O 工信部公布的是:2.1.6 氟化氩光刻机 晶圆直径:300mm;照明波长:193nm;分辨率≤ ...
晨枫 发表于 2024-9-16 14:00# y$ L* E v( S 也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!, w( f( [* R+ R0 v* D9 F. t ( t' k% C" [3 r9 k0 \% C. B/ N个人感觉:相比于前一阵 ...
moletronic 发表于 2024-9-16 07:42 ) b# K7 e: S2 i! M0 iEUV没有透镜,只有反射镜,整个光学系统完全不同。目前看不会再搞浸水了。 ...
沉宝 发表于 2024-9-16 12:46, p5 ~; w& `# X' u G5 | f 不存在28nm光刻机,只有28nm工艺节点。, Q6 ]+ G- I( ^: e. k9 K) @ $ `/ b% e+ G0 |4 U n; ^. @6 A从光刻机所用的光源上来说,只有 193 nm (ArF激光) 和 13.5 nm ( ...
晨枫 发表于 2024-9-16 11:21( s( ]5 {9 _: E8 \6 r1 @- q 也就是说,EUV用浸水没有用?
moletronic 发表于 2024-9-16 14:38( A. I/ z& [& A8 f9 M 理论上有用,但目前没看到在路线图上。估计是水对EUV的吸收太大,本来EUV光源的强度就小。 ...
晨枫 发表于 2024-9-16 12:398 P8 p) F6 z# j' k; _4 U 是哦,连透镜都不能用,水可能更加不行了
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