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马鹿 发表于 2024-9-15 04:18 ' Q ]2 g2 `4 f0 N4 `! R我还以为你才30多岁。。。
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[LV.4]金丹
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moletronic 发表于 2024-9-16 09:46 3 _' j# y- p" _. A% S; @( `, C公布的参数只能确定的说解决了65nm的有无问题,对于代工厂来说要不要用还有几个关键参数没说。比如生产速度 ...
老财迷 发表于 2024-9-15 21:190 c# G9 l2 |5 C' d$ x- s7 E 感谢感谢6 c! L# y Q) ~ 5 k) y% Z; G1 q5 j 工信部公布的是:2.1.6 氟化氩光刻机 晶圆直径:300mm;照明波长:193nm;分辨率≤ ...
晨枫 发表于 2024-9-16 14:00" G a! f% ?/ N! A- R) N 也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事! 9 X4 ^ d* v" K" Y0 Y8 F3 l 1 G1 d/ y( O: X7 {" q个人感觉:相比于前一阵 ...
moletronic 发表于 2024-9-16 07:42 9 }4 H6 x/ J. u9 g' |9 BEUV没有透镜,只有反射镜,整个光学系统完全不同。目前看不会再搞浸水了。 ...
沉宝 发表于 2024-9-16 12:46 1 N' F: @. c7 W [不存在28nm光刻机,只有28nm工艺节点。' Y) q. I# c3 m% f 8 p# L' I( \- e+ V" x从光刻机所用的光源上来说,只有 193 nm (ArF激光) 和 13.5 nm ( ...
晨枫 发表于 2024-9-16 11:21 d5 ?' l J0 K1 X7 \也就是说,EUV用浸水没有用?
moletronic 发表于 2024-9-16 14:38 4 B0 b# b- U' H+ Z G理论上有用,但目前没看到在路线图上。估计是水对EUV的吸收太大,本来EUV光源的强度就小。 ...
晨枫 发表于 2024-9-16 12:39% c* u3 q3 k5 I: B 是哦,连透镜都不能用,水可能更加不行了
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