TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
. u9 ^+ E/ @7 I `0 m& }1 R! u也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!9 B/ e6 I& u" E, u4 @7 U( d/ K
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个人感觉:相比于前一阵 ...
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" N1 B# f, R/ q应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)% O. N0 {: I3 {3 w4 O
24-9-16 23:55: _: Y1 E* {4 {
发布于 湖南
4 F: n* f# r2 [# _0 G来自 微博网页版0 y }% q5 R7 M, k+ r
啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机 k! k* b5 i% B+ a" r5 t: Q
不是运过来就能直接开工的。 @* H+ ^- p' E6 G
他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长,也是我常年说:. Y" a2 T; h% ^6 W; C6 x! I% f, d
就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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3 K4 I* S4 }. Y S$ O: o# C现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。( Y% _) l8 B3 ]5 Q3 b* r
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简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。
- q! T; |# d0 {3 G5 F6 @% g# G干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)6 s& q9 N; v4 {/ g
多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)
9 V8 M# r# a% r6 N, E2 Z但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了' H$ Q- G5 z+ E+ F; j- G
8 ~2 C/ z- T& d0 |& p4 C8 f' U没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。4 W9 {5 m9 w% k0 O: C
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。/ B3 @) U" h6 o
#华为mate70# 也没多久了。
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