TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
) Z* r, w) p" ` _% Q也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！! j) Z% u+ h/ h0 a' q. l e
) [7 s- }8 Y0 K2 {, L个人感觉：相比于前一阵 ...
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1 x# p& k9 S" v- X, Y6 G应该会在5年内实现吧。' Y7 p0 U0 T( N/ k
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
% w1 \8 N7 c+ s& P. g- m24-9-16 23:55
+ f3 d! r9 G, N发布于 湖南% q. k K) p5 N& Q* [2 P
来自 微博网页版3 m* u% q. v1 `6 \ j" N
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机: @9 X: S# a' V5 p* ?
不是运过来就能直接开工的。' I5 R2 n! ?8 f1 E7 f
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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8 }$ w/ e) P' Z4 M8 v \这个时间很长，也是我常年说：
- w; k1 D8 v+ Q2 E就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。( G% ~, X& C* t1 @* {+ X
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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" x k' B5 {; [+ ?. v简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。2 s3 I k% S! k5 T4 N
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
% S( O/ b' ~/ [& R( s$ X多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
( [ j) L; g) J7 L" {7 Q) x但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了/ ]& T( w' x2 l; T$ M
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
9 u% o) u0 H7 v' L普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
t2 [$ T" ]& }! c9 q( U#华为mate70# 也没多久了。6 G1 ^. r: J' _( i( G; }7 ~
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20