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[科普知识] 国产光刻机猜测

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  • TA的每日心情
    慵懒
    2022-8-27 22:14
  • 签到天数: 351 天

    [LV.8]合体

    21#
    发表于 2024-9-17 08:06:46 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
    + M$ L4 ^. F$ L; d0 ?+ t8 h6 A也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!2 L2 Y; F0 A9 i# i
    . `. J7 M" D: v) s  a
    个人感觉:相比于前一阵 ...

    $ a, H. A% j' B
    1 |5 q7 J. l% X1 a1 ?
    这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。

    " G& `! u# f0 J( S! a! h应该会在5年内实现吧。/ B( W3 X/ ~0 j+ @
    & T8 b* r/ R* s; @1 ~
    微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
    ( F$ B1 M; [. I0 _" [& a  F24-9-16 23:55, _7 |) b0 h1 a' @/ z3 U* ^, c/ ?
    发布于 湖南
    2 E5 E  m: }  l! v3 E5 M) Y来自 微博网页版; `8 V8 t, q1 I$ d" R9 B$ ^
    啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机  _, c4 G; k! ?# L2 a
    不是运过来就能直接开工的。1 \# u6 U5 p5 I$ q
    他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。% R7 u/ A) k- x: S% }

    & @2 d5 e2 g! F3 v这个时间很长,也是我常年说:
    * Y4 H  v# X, @# H就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。  a* o7 C7 H* i
    ; I: E7 @- F2 @
    现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
    " D: g& [. u( g8 z5 p
    * x: ~% ]# i, J- g1 d简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。5 t% G# r& C$ D) K
    干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
    ; s. @& `+ M& Q1 Z5 K" n( p多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)% E  J: Z' s! d) R) r: L
    但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
    : ?2 z3 G4 f* R" E
    ( X7 e0 _( _3 L5 P) I没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。3 s+ V) H, f5 G" X1 h. R# p4 w* q
    普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。: \& N$ Z8 `4 n6 F& J0 I
    #华为mate70# 也没多久了。$ p/ B! g+ M" a2 G. C) `  b6 r

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    这真是极好的: 5.0
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      发表于 2024-9-18 15:38
    给力: 5 涨姿势: 5 这真是极好的: 5
      发表于 2024-9-17 08:38
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    [LV.Master]无

    22#
     楼主| 发表于 2024-9-17 08:15:36 | 只看该作者
    老财迷 发表于 2024-9-16 16:06
    5 j, N6 W. h2 g应该会在5年内实现吧。3 F) p  b3 _4 |! R

    # q3 G) j- o- O1 _  _微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)

    2 H/ R  J) q4 y0 S
    / L0 Z1 W4 o, P+ m- i+ g这个有点扯,新机到货后肯定要调试的,但绝对用不了两年的时间。

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    以你说的为准 :)  发表于 2024-9-17 15:27

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    23#
    发表于 2024-9-17 08:39:20 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 18:15+ S3 h/ j! M$ o( b' l; M! \: N
    这个有点扯,新机到货后肯定要调试的,但绝对用不了两年的时间。

    ( k& t. o0 ^4 x6 p8 B但干式到浸润的步子没那么大,这说对了吗?
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    [LV.Master]无

    24#
     楼主| 发表于 2024-9-17 10:54:17 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 18:56 编辑 ( h& C7 r, q4 H4 @) U7 z1 I& K
    晨枫 发表于 2024-9-16 16:39
    3 P" r, b6 u2 k* _7 z7 V! ]但干式到浸润的步子没那么大,这说对了吗?
    . C% d* R' P* F7 k$ g$ A

    2 T8 F6 a% @* l按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
      w: _% q( b6 v8 j2 t所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述

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    25#
    发表于 2024-9-17 11:08:25 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 03:34& E; f8 W5 |1 G
    不过EUV制作7nm可以轻易一次曝光,产率和良率应该提高很多?

    % l/ o5 L! U! d( ?2 J$ N% i2 C理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程,需要各方面不断打磨,才能接近理想的结果。现实中的例子,台积电用193nm光刻机率先量产7nm,三星则以更先进的EUV光刻机应战,由于对新型光刻机的熟悉不足,结果良率低下,很多人抛弃三星。最后三星赔本赚吆喝,开出比台积电低30%的代工费用,才勉强留下大客户。

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      发表于 2024-9-17 15:28

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    26#
    发表于 2024-9-17 11:13:01 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 20:54, V% n8 H$ H$ o- C0 A
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定( i' ]/ V' J2 m. o6 y
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

    ; ]1 d# P9 ^' l- E4 ~$ \/ h: P) ~有道理。
    " F( a5 P. ^( M" x) h% O, T- C$ o6 M' b- W; B/ Q: v$ C% J
    不过现在看尼康和佳能的光刻机,总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦,就用最小投资吊着。不退场,但也不全力以赴。: C" A' s2 B2 d, V  o" o* I0 Y# z

    7 V' d: O- [; M; w& V% l5 c中国肯定是全力以赴的。而且倾国之力肯定大于尼康、佳能。
    2 m" r3 A7 b8 q7 P0 e. O; i3 G9 v8 Q, z- Q0 s9 Y
    这会有差别吗?
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    27#
    发表于 2024-9-17 11:13:37 | 只看该作者
    沉宝 发表于 2024-9-16 21:08' }9 Y& B7 h& i6 c# B! Y' V
    理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程,需要各方面不断打磨,才能接近理想的结果。现实中的例子,台积 ...

    8 H, |' v2 p, S( j5 z) }这倒是个问题。都说韩国人拼,看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。
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    28#
    发表于 2024-9-17 11:19:08 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
    7 v$ L. M$ t0 `按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
    ( T0 N6 m; T- ~8 A所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

    5 X0 ^/ P' C8 z1 l, W; u2 n  C还没搞定?
    0 Q5 `7 \! Q& Z# B0 |% z! a* {! f我可能是09年去给Nikon做实验,他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡,想买个做实验的系统。我在的小破公司搭了一个,然后过去一起做,看能不能用。那个时候估计还是早期,这些基础的问题都没个数。做了几个实验,证明可以捕捉到微气泡发生,成长和运动的轨迹,我就撤了。这都十五年过去了。* @2 Q2 `5 D( n
    尼康那时候已经有点不灵的迹象,食堂里面睡满了安装队的人。正常的话那些人都是满世界跑给别人装机器的。+ E3 l9 j5 f2 v+ U6 b/ L

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    坛里藏龙卧虎啊  发表于 2024-9-17 15:31

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    29#
    发表于 2024-9-17 11:21:47 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 20:549 Y8 [" [* r6 H! P- J
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定$ N( c) c) e) H) M4 I5 p
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...
    - u* l1 C: q4 G( Y
    突然想起来:现在就聚焦于逻辑芯片,存储芯片用的芯片技术一样吗?前一段听说长江还是谁的128还是256层NAND也被卡了,因为光刻机的事,这说法准确吗?高端NAND需要多少nm节点的光刻机?
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    30#
    发表于 2024-9-17 11:23:33 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
    : U6 P$ w- {: L) Y% p' S+ s3 K有道理。
    , ?1 p  y' Z- O, ~
    1 X. ~( O8 ?$ i不过现在看尼康和佳能的光刻机,总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦,就用最小投资 ...
    ' i* r3 {( H1 R: v( L7 B6 k7 ~
    可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的,可是政府也难呐,到处都是嗷嗷待哺的嘴,捉了个虫也不知道塞哪张嘴里。! ~6 S% [% R# L  ?8 ?# m
    很多年前日本媒体评价日本财政用了很形象的词,叫硬直化。所有的钱都有定好的用处,几乎没有活动钱。需要财政支持的时候十分狼狈。该做的事情做不了,钱全都拿去维持日常运转了。

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      发表于 2024-9-17 15:32

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    开心
    2023-2-8 04:51
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    31#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:28:54 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 19:33 编辑 " W; _, J/ p" {; e; a; F
    雷声 发表于 2024-9-16 19:19% T" z! j# X  @* Y: ^# f3 n
    还没搞定?
    , M, @: x; \. N# U8 Q我可能是09年去给Nikon做实验,他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡,想买个做实验的 ...

    8 d4 G: j9 b  ^" Q5 R( d: W. h" z5 q7 S* y
    Nikon是稳定性不行,被牙膏退货后就没人再买。疫情前去开spie的会,Nikon还吹牛自己行了,但主流客户没人用。' |# v6 {, h8 ]
    有网上谣言说华为买了些Nikon自己魔改做出了9100…俺比较怀疑真实性。
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    2023-2-8 04:51
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    32#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:31:01 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:21# l  R  O: p) f2 z2 ]' t# J
    突然想起来:现在就聚焦于逻辑芯片,存储芯片用的芯片技术一样吗?前一段听说长江还是谁的128还是256层NA ...

    6 v3 W  U# B  y5 l5 j存储和逻辑的工艺重点不一样,节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。
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    33#
    发表于 2024-9-17 11:34:00 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 21:31+ a7 E$ u) {5 g. h- m5 \
    存储和逻辑的工艺重点不一样,节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。 ...

    + y8 \* b7 \% X( R; ?) X需要用到浸润DUV吗?0 {' R# \9 E0 \, X, h
    8 |* u6 N9 U) E; d' J3 M
    我的问题其实是:65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗?
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    开心
    2023-2-8 04:51
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    34#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:37:50 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:34# q. t% E* X* d5 E
    需要用到浸润DUV吗?
    $ I) C6 _5 M. k# g: Z9 V2 ~' P: b, q
    我的问题其实是:65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗? ...
    % d- Q  B3 w7 X. \8 }
    浸水还是要的,这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。
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    35#
    发表于 2024-9-17 11:38:06 | 只看该作者
    雷声 发表于 2024-9-16 21:23" f3 V5 g, p; }+ L
    可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的,可是政府也难呐,到处都是嗷嗷待哺的嘴,捉了个虫也不知道塞 ...

    6 s2 |: N1 i$ Z2 q! D5 [3 y* R是的,需要钱的地方太多,但光刻机和芯片可能是不计代价砸钱的方向,优先级比谁都高。这个瓶颈突破后,不只是军事、科技上的阳关道,经济上也是大片的处女地啊。( E  w' e* W5 T  A$ q& t+ f: R

    / y# p! U0 N" D/ p$ p1 Y9 l硬直化很形象。确实,西方家大业大,花钱手笔也大,但每一笔钱都预定了用处,活动余地真心很小。你看看美国在预算削减时那个鸡飞狗跳,就知道真是谁都动不得。“平均剃头”是公认的最坏选择,但是唯一大家可接受的选择。
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    36#
    发表于 2024-9-17 11:40:47 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 21:37  j/ x* J& [8 B* j
    浸水还是要的,这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。 ...
    3 S( z. v7 ~4 C" u" |" T% R
    都说工信部这光刻机不是浸润式,但193nm光源,65nm分辨率,正好是2*1.44倍,是不是太巧了?
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    37#
    发表于 2024-9-17 11:43:29 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-17 10:541 D- Z% y, x7 V5 p+ t
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定$ I/ m# d/ A; N/ V
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

    : j: w8 D6 O2 _$ E# k" @具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点,这个温差会让水的密度不均匀,从而折射率不均匀,影响成像。为了避免温差,必须让水快速流动混合,但又要避免产生漩涡或者析出气泡。水可以把所接触物品上的杂质洗下来,带到晶圆上,形成缺陷。当初ASML搞浸润式光刻机时,在浸液系统上与林本坚团队合作,方案修改了7-8回,耗时两年多才取得满意的结果。

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    开心
    2023-2-8 04:51
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    38#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:59:49 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 20:02 编辑 . g1 ~$ u) F4 U4 H% V/ J! c- F4 ~
    沉宝 发表于 2024-9-16 19:43+ e- P9 |, T6 X
    具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点,这个温差会让水的密度不均 ...

    # \0 t0 U/ _+ F4 w  X2 w+ g
    # X0 u6 q) }2 K9 l$ x3 p$ K这当然不容易,不过两年挺快啦,看看牙膏的10nm……
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    开心
    2023-2-8 04:51
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    39#
     楼主| 发表于 2024-9-17 12:01:58 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:40  M4 {2 \3 X* f# y
    都说工信部这光刻机不是浸润式,但193nm光源,65nm分辨率,正好是2*1.44倍,是不是太巧了? ...

    5 `9 V+ z* o$ @4 D0 b# g不知道啦,也许是隐晦放风的说法。
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    40#
    发表于 2024-9-17 17:38:39 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
    % d7 ^4 S# \: G* R% _这倒是个问题。都说韩国人拼,看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。 ...
    ! a5 R9 ~% M: _+ U8 ^' [+ a  I
    中国大,各地方人气质不一,各擅胜场。精细活儿江南地方超过东北山东。如此说来,韩国近东北山东,台湾精英是江浙后代。
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