TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:003 P! l- R) l7 b$ e# c( I x
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
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5 U% C* W$ `3 U, Z& f/ M个人感觉:相比于前一阵 ...
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' I. ~3 F8 Q1 A& p应该会在5年内实现吧。
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! Q3 `& c1 D3 y1 D j微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
8 v: c) g5 @9 V7 t24-9-16 23:557 z, ]6 A- x, p
发布于 湖南, _4 [# \- E/ m. ]1 f& D" c8 S7 E
来自 微博网页版
' ~! P; P" ^2 b6 I啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机( Y; W6 ?$ t A9 T/ h9 T+ j
不是运过来就能直接开工的。
/ G, L6 M0 t% ~: e2 w5 [2 W, G5 l他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长,也是我常年说:3 N4 x/ }: [$ h" A
就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。 [$ H [3 ?4 j5 x C2 t
" C1 z0 h, i7 Y9 t现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。2 m, Q" Y6 v2 |- L* |0 A$ Y
, r( X$ G4 _% D4 @5 o3 k' |, U简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。8 Y8 R0 n! [5 c k
干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)1 C' u6 h% B: F8 j& u* @
多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)
1 f: D6 Q+ s9 p! A* r# q但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
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没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
7 c' z6 f5 l, `* V普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。 J% a. d' r% B$ l0 b1 I: \
#华为mate70# 也没多久了。
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