国产光刻机猜测

老财迷

晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
, u" a/ L3 e% E) I9 J- F也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
% d/ n2 j9 ?0 s2 I; |. [
个人感觉：相比于前一阵 ...

8 o0 `$ a% d  v8 v3 Y: \7 h
( q; o4 p2 N6 j7 `: t& S

这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。

( C, C% j$ L# x应该会在5年内实现吧。

3 R: S0 |  Z- y9 w微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
24-9-16 23:55
. h& f/ y! M4 C2 W2 j" j发布于 湖南
来自 微博网页版
# b8 Z4 _6 x+ K啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
不是运过来就能直接开工的。
+ n, H0 p9 o4 L1 y! B+ s9 i: `他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。

这个时间很长，也是我常年说：
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。

现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
. `, D, M! U  b( Y- \. D
" J! t& {5 I' y7 m8 D9 |  o简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
+ @9 D: A. b1 D& L7 X0 q干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
9 K6 c5 t( J) M但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
1 ~1 w& T6 b. A7 A
7 k# _, S$ p$ g, a: D& R' E3 z没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
#华为mate70# 也没多久了。

moletronic

老财迷 发表于 2024-9-16 16:06
应该会在5年内实现吧。
$ p  Y( \  F3 a# h: K* D
微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）

. \5 q5 P+ D2 |! H5 G$ {
这个有点扯，新机到货后肯定要调试的，但绝对用不了两年的时间。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 18:15
7 }- e% X$ V9 V  W这个有点扯，新机到货后肯定要调试的，但绝对用不了两年的时间。

  }5 M/ N6 `+ P( m' x但干式到浸润的步子没那么大，这说对了吗？

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 16:39
但干式到浸润的步子没那么大，这说对了吗？

7 v7 J  R' I/ U* }3 L; p2 e* W
4 }( Y9 E( Z1 |4 Z& \按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
; D4 e" b& \- g6 `所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述

沉宝

晨枫 发表于 2024-9-17 03:34
7 x4 K8 X0 i/ M( I不过EUV制作7nm可以轻易一次曝光，产率和良率应该提高很多？

5 @: H: |( C' I% f理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程，需要各方面不断打磨，才能接近理想的结果。现实中的例子，台积电用193nm光刻机率先量产7nm，三星则以更先进的EUV光刻机应战，由于对新型光刻机的熟悉不足，结果良率低下，很多人抛弃三星。最后三星赔本赚吆喝，开出比台积电低30%的代工费用，才勉强留下大客户。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

有道理。
+ }7 y8 [; ]" E; `! d, m* _
$ c! E, ]/ E- ~2 l1 p不过现在看尼康和佳能的光刻机，总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦，就用最小投资吊着。不退场，但也不全力以赴。
4 b" i5 u3 K3 ^1 z0 ^
中国肯定是全力以赴的。而且倾国之力肯定大于尼康、佳能。

这会有差别吗？

晨枫

沉宝 发表于 2024-9-16 21:08
理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程，需要各方面不断打磨，才能接近理想的结果。现实中的例子，台积 ...

2 \3 f* O& Q! L; j4 e2 i这倒是个问题。都说韩国人拼，看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。

雷声

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
5 k  Z. B3 Q. H$ i  e所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

* t* T% l, X" H7 J  s) I6 a还没搞定？
我可能是09年去给Nikon做实验，他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡，想买个做实验的系统。我在的小破公司搭了一个，然后过去一起做，看能不能用。那个时候估计还是早期，这些基础的问题都没个数。做了几个实验，证明可以捕捉到微气泡发生，成长和运动的轨迹，我就撤了。这都十五年过去了。
尼康那时候已经有点不灵的迹象，食堂里面睡满了安装队的人。正常的话那些人都是满世界跑给别人装机器的。
+ `' C0 R1 {) r: M

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
3 v& C- q1 F3 W/ F按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

1 u) \# a5 V0 d突然想起来：现在就聚焦于逻辑芯片，存储芯片用的芯片技术一样吗？前一段听说长江还是谁的128还是256层NAND也被卡了，因为光刻机的事，这说法准确吗？高端NAND需要多少nm节点的光刻机？

雷声

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
( B! B7 [" ~. c  W4 T) V有道理。

不过现在看尼康和佳能的光刻机，总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦，就用最小投资 ...

0 F9 L; h6 H" y* b* g/ v' j可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的，可是政府也难呐，到处都是嗷嗷待哺的嘴，捉了个虫也不知道塞哪张嘴里。
很多年前日本媒体评价日本财政用了很形象的词，叫硬直化。所有的钱都有定好的用处，几乎没有活动钱。需要财政支持的时候十分狼狈。该做的事情做不了，钱全都拿去维持日常运转了。

moletronic

雷声 发表于 2024-9-16 19:19
# d4 w( G8 k: ]( m# q3 k* T4 R8 z还没搞定？
- _: J$ K  `7 X2 e. c2 J; m8 S3 T4 j我可能是09年去给Nikon做实验，他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡，想买个做实验的 ...

1 n1 |+ J& y$ |% q5 @. R! K% U  X
4 `  F+ o8 K5 ~$ W6 i; ~* FNikon是稳定性不行，被牙膏退货后就没人再买。疫情前去开spie的会，Nikon还吹牛自己行了，但主流客户没人用。
0 f" R. Q% ~5 [! m3 ?有网上谣言说华为买了些Nikon自己魔改做出了9100…俺比较怀疑真实性。

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:21
' i5 q* f1 y3 ^突然想起来：现在就聚焦于逻辑芯片，存储芯片用的芯片技术一样吗？前一段听说长江还是谁的128还是256层NA ...

存储和逻辑的工艺重点不一样，节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 21:31
) s& v5 L) s9 k. ^( \! k. J存储和逻辑的工艺重点不一样，节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。 ...

2 ]1 w; e9 @% I# G9 M  v+ s需要用到浸润DUV吗？

我的问题其实是：65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗？

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:34
/ G  i' v2 R# G0 Z; f需要用到浸润DUV吗？
6 |1 m* B3 [+ Y% \
我的问题其实是：65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗？ ...

浸水还是要的，这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。

晨枫

雷声 发表于 2024-9-16 21:23
可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的，可是政府也难呐，到处都是嗷嗷待哺的嘴，捉了个虫也不知道塞 ...

  w  Z' y% i4 G$ y3 t* ~# H是的，需要钱的地方太多，但光刻机和芯片可能是不计代价砸钱的方向，优先级比谁都高。这个瓶颈突破后，不只是军事、科技上的阳关道，经济上也是大片的处女地啊。
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% p4 Q9 R: f' P& \4 X* L  ?硬直化很形象。确实，西方家大业大，花钱手笔也大，但每一笔钱都预定了用处，活动余地真心很小。你看看美国在预算削减时那个鸡飞狗跳，就知道真是谁都动不得。“平均剃头”是公认的最坏选择，但是唯一大家可接受的选择。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 21:37
浸水还是要的，这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。 ...

都说工信部这光刻机不是浸润式，但193nm光源，65nm分辨率，正好是2*1.44倍，是不是太巧了？

沉宝

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
* V8 ~; s7 k& {8 a4 H! y& s按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点，这个温差会让水的密度不均匀，从而折射率不均匀，影响成像。为了避免温差，必须让水快速流动混合，但又要避免产生漩涡或者析出气泡。水可以把所接触物品上的杂质洗下来，带到晶圆上，形成缺陷。当初ASML搞浸润式光刻机时，在浸液系统上与林本坚团队合作，方案修改了7-8回，耗时两年多才取得满意的结果。

moletronic

沉宝 发表于 2024-9-16 19:43
具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点，这个温差会让水的密度不均 ...

这当然不容易，不过两年挺快啦，看看牙膏的10nm……

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:40
$ D$ s3 c1 Q, D) ^& B5 @都说工信部这光刻机不是浸润式，但193nm光源，65nm分辨率，正好是2*1.44倍，是不是太巧了？ ...

% {  h6 z/ [' A不知道啦，也许是隐晦放风的说法。

hsb

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
这倒是个问题。都说韩国人拼，看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。 ...

/ a1 x* u9 G) `! G$ C: ^中国大，各地方人气质不一，各擅胜场。精细活儿江南地方超过东北山东。如此说来，韩国近东北山东，台湾精英是江浙后代。