TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:003 K x, I1 n9 ?9 x# F# Z f
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!. R6 J& S+ b# v
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个人感觉:相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。
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4 C6 p1 K; M3 k& }7 W- t微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)/ H, F6 @ ~9 t5 Q: q( g
24-9-16 23:55" l- a/ V0 v K C8 `
发布于 湖南
& s( r7 q- x: }# I0 u- f9 j来自 微博网页版+ u6 |9 G/ x9 l4 ^& t7 \; N
啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机
1 e h) m# c) e6 @4 i( h! |1 ?( `不是运过来就能直接开工的。
9 K* ?. ]9 {; A& B5 q7 b% ]9 u他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。4 `% v( z" Y( E' X4 Z, s$ y
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这个时间很长,也是我常年说:% R" A; [2 L( @2 ~; `
就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。 ], K4 Y! y. I8 F0 ^; _$ S' q
( R/ T% {8 w* E! J& m. Z1 i1 ~& ^现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。4 E# g& O5 r9 d$ Y3 C# P; D
' A# o/ |0 s" ^$ |简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。/ u# a1 ?6 r o/ z: Y* ?
干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)' V5 i7 R& g! F! e- A' U
多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)& S; p& C A" q& Y N
但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了/ X$ T, g/ C9 Y$ K- i
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没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
6 _" W4 x1 K% w& k: P* N- T普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
% R, p) e2 b; w0 Y#华为mate70# 也没多久了。
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