TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00* Q9 P+ ^4 s7 t( ?: w$ A
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！/ U* W$ ^4 _7 r, V
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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- _/ ^7 B3 e0 {: S& u应该会在5年内实现吧。) P9 }4 E6 E0 W
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）% W7 i" U1 L" a9 C8 A8 T0 g
24-9-16 23:553 ? h8 A6 y/ U
发布于 湖南 |: D- H) q( i& n
来自 微博网页版
( j" J" R4 z0 M0 |/ o. ~啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机, |, v( X8 X. z! i1 }$ }
不是运过来就能直接开工的。
^! p. Q$ l8 w' n) W2 Q# X他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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* P; Q- z" h3 p; R; C1 }% g w这个时间很长，也是我常年说：
/ P' t+ g" j4 g: j就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。- ^8 o5 E- ^* n3 h* D& V
' V/ j- w, H) n9 R0 Q现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。7 I: C# B1 V' F% ?8 h
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
2 D! h7 r' w, h干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
# X, n. c% x2 I, i2 Z3 w多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）8 A8 r+ G. l0 T9 Q$ E9 Q
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。0 A9 a* \& _' A& P4 [* U T
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
8 R9 T. R! ~3 R% G, m/ m- q5 c+ U#华为mate70# 也没多久了。/ n/ o. n4 P- D. Z$ m2 K7 f
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20