TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00# ^# E$ m3 e. `# K! i8 i4 v3 a
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！4 o' ~ s' _. S5 h4 R: o
3 E# v; ` ]+ |( w个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。
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6 y# y; a. ~- g d微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）0 D$ ]5 [0 X$ S# |: h+ C9 Y
24-9-16 23:555 |% X4 s' Z0 [+ k* y, f; N
发布于 湖南
: e9 s" ~/ s1 k* ^. _: R来自 微博网页版
7 G5 X$ F6 I4 j; ]& Y/ v, w2 E啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
$ f% ]5 X0 N, Q8 ?7 J不是运过来就能直接开工的。- V" n+ f" t' d5 ~. Z7 i. _+ }- i: t4 n
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长，也是我常年说：4 y6 Y: L" E s/ X) |3 G* j: U
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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! m+ U" t& q. B, e1 j现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。' e- n6 Z/ K8 M. _2 T2 W+ }. j$ A
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）' I, W& R3 c- m0 d
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）* n, G6 C& a+ E7 z
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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( R0 a3 [" Z: b* @ r# R4 y没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。, `9 f& k3 @& J
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
% _# H8 ^3 c. |4 [+ X; b6 Y |! T#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20