TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00) p8 |; v8 w0 n# w7 h. [2 z7 ~
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!# h8 _: `2 ?* B! i' @1 q
8 R. z/ O7 |) `5 a个人感觉:相比于前一阵 ...
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$ W& E3 D! n9 x- @' x应该会在5年内实现吧。7 n! ~3 T2 ^& i- n3 A+ [
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微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
( {+ y0 e2 m/ i" n, s/ s24-9-16 23:55/ B" z, U6 }: ^/ ?" \- }+ p
发布于 湖南; d6 ~7 F8 c* h+ L8 T& F
来自 微博网页版1 R$ h2 {8 {6 N+ x5 j
啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机; G# |2 J( T# t% a3 v! f+ u
不是运过来就能直接开工的。$ X9 K6 y5 f! R6 ^ M
他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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, v- k5 W) C1 L8 Z* y5 i这个时间很长,也是我常年说:
7 Z f: z$ W) r* N H M# R" J, [就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。1 N3 ?: z( t, l) I# }! ?) u5 Y# i
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
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# |; T5 u' C2 I/ y4 A简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。# q& n" L* @8 j; d
干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)1 Z v' u. c0 o
多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)
9 A: A# ]! W1 P. g- Z& E: V2 J但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
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没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。! A' m9 _0 z: f
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
* O7 T0 a5 N0 s# d/ R, O. m#华为mate70# 也没多久了。
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