TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:007 M8 l' k$ D2 i0 @& m
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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; j# \; F3 n$ V! S" Y应该会在5年内实现吧。$ G5 |2 l J C/ A' @
+ F! Y! ?# H( k! V4 H% `1 ^( ?微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
/ H# Q# s/ I9 L% Z! P24-9-16 23:551 P3 ]* {& |: E& i8 }
发布于 湖南
: R5 v5 v2 N' @* G) e- p$ X! i" _来自 微博网页版
8 g9 V% m7 l* b* r: Y$ ]- Q啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机1 u0 M9 U9 _' c7 ~7 P. f) _
不是运过来就能直接开工的。8 \" O# q( n4 `, i; z% g3 {* ~
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长，也是我常年说：
- y# R3 [* |3 j5 H就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。- F' p, a! D/ Z
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
& y# r" \; u; h$ m; d! K. K多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）* @' z4 ]8 m* I3 m3 P5 }
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了: O9 o/ e, D0 S, p' V
% H$ X4 @6 y5 X5 f6 J) @没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
7 e0 _) y+ a7 @( g J) }: w/ S普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。7 v( z A7 A' L4 z. H
#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20