TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
) G* v; U/ W. U2 _. W' D1 B0 U也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！. i' N) h5 z$ j9 r" S9 f
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。! q4 k% ~! o, ~5 h+ n/ J6 \
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
/ W5 H1 G/ v% D- w4 O24-9-16 23:553 m1 [" {6 k* K! Q0 q' d
发布于 湖南- ~; y# j, U+ r4 s$ t/ {& E; U
来自 微博网页版
; H/ u7 n% W: b, \啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机9 _+ k" a! `6 s8 G. @& l* w' E
不是运过来就能直接开工的。# L4 O7 H( F, A, P% f6 ?* p5 M
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。8 H6 V3 S$ [) p
" z& s9 l& w, C! j- I9 d1 N这个时间很长，也是我常年说：. w! P6 _9 V$ ~5 F, W* J
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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( H: Q; k, W$ l" x; Y现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
, F; Z) r/ B1 [1 E/ D- v O; d$ g: C1 i! @# p$ h$ h9 d
简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。5 t' c) K' `, u' U. E! o- H
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）; t2 h7 P; t$ G. S( X
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
( E1 K7 q( G+ I9 N* ^4 Z但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了2 q; Z, u3 d' q: i. ]9 m
! J! {- L5 z2 w1 {1 k$ m% d没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。$ }+ t7 @" {$ [
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
; c- z4 u* y5 k- K5 ?( w#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20