TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
( I5 q# @/ I' r也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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; k: k3 i- M1 X5 d& k* y2 N& K个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）- a) C' M* `6 H2 T
24-9-16 23:55! W: G/ G) @; M E* K4 Y
发布于 湖南7 A N0 y* X0 C2 K. _
来自 微博网页版( k2 R# a8 |2 K4 b4 G; l' g
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
. h! E/ U5 J6 k0 U+ ~6 a/ E9 b不是运过来就能直接开工的。
; y% e# }& o8 O* \8 w% R- v他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。. V" e: W0 v, k: Y
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这个时间很长，也是我常年说：
V5 t0 u6 _8 a$ W. h' r就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。# |5 l2 F$ a; d0 j
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。' T( g1 w+ K( H& p" `# R: }0 N
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）! Q% ?5 o& `( \- L B& Q( s7 H7 L
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
( q9 _1 a) F/ r0 `, U+ X但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了* L1 X8 D/ B% @ f j
0 e U7 Y9 |( f7 X' v没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。1 U1 Y2 c$ N6 M
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。2 ~8 j0 o5 e3 B7 }. ~- N, W/ j: @
#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20