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[科普知识] 国产光刻机猜测

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  • TA的每日心情
    慵懒
    2022-8-27 22:14
  • 签到天数: 351 天

    [LV.8]合体

    21#
    发表于 2024-9-17 08:06:46 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 14:002 n  @& E5 p4 G) u; H2 ]* F
    也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
    / @2 |/ P$ l' k% V, x/ |, M& y; A4 D
    个人感觉:相比于前一阵 ...

    # k* `; I! Z6 A8 F, I0 c8 N4 v& I4 |
    这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。

    0 @% i& [' d3 m4 N# N+ H应该会在5年内实现吧。
    # r# N, U% m) P6 h2 A' g
    & I$ ^4 j# w. _, R- p3 {微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
    / H, b% g4 T. |24-9-16 23:55
    5 z" n6 m. g  j; m  a$ F发布于 湖南
    4 n$ v- h9 Z2 {) j4 k6 [4 B/ M2 w9 J  b来自 微博网页版3 a: Y' s2 f. V& S- n2 E9 m
    啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机' p( E& {! o" z/ a
    不是运过来就能直接开工的。
    4 Y: X5 p+ u* k& w5 r5 Q他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
    $ \* T% y9 [) c7 U. g4 C' D8 n* F8 S0 S4 o
    这个时间很长,也是我常年说:
    . E( c7 V6 \" Y/ f- j就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
    * x4 C5 Z9 e2 P" P- H7 n% ~8 F1 T$ P6 a
    现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
    . i6 D+ \; }6 f5 h% J' N+ p
    , H7 p; C4 B, ^- W) }* A简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。) `" U/ x4 }" i8 d2 O) A3 O
    干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)) h* k4 W7 p2 U5 H! W  ^: O
    多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)5 ^$ _/ t  p9 b
    但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
    % l, {  i: P$ T  H' z- L- l! e1 T/ U' y, L+ ~- s# G/ T1 T
    没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。4 s7 s  `2 |9 |, c
    普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。0 S* C$ `4 b$ ]3 P+ t* j
    #华为mate70# 也没多久了。: y4 ^# d! a7 `0 c) U4 w

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    这真是极好的: 5.0
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      发表于 2024-9-18 15:38
    给力: 5 涨姿势: 5 这真是极好的: 5
      发表于 2024-9-17 08:38
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    [LV.Master]无

    22#
     楼主| 发表于 2024-9-17 08:15:36 | 只看该作者
    老财迷 发表于 2024-9-16 16:061 t$ s# T( k5 [, e
    应该会在5年内实现吧。2 R1 e9 s  T& ^0 G& F

    9 \; L; g3 D6 T( s* P1 \: @微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)

    4 D! b- K! G8 O- o6 y
    " f( F' x0 [$ k4 g这个有点扯,新机到货后肯定要调试的,但绝对用不了两年的时间。

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    以你说的为准 :)  发表于 2024-9-17 15:27

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    23#
    发表于 2024-9-17 08:39:20 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 18:15
    , [! I' \- h* w- g! W3 L* O  I这个有点扯,新机到货后肯定要调试的,但绝对用不了两年的时间。
    - x6 [2 n% Z* f# {5 N
    但干式到浸润的步子没那么大,这说对了吗?
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    [LV.Master]无

    24#
     楼主| 发表于 2024-9-17 10:54:17 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 18:56 编辑
    " w1 |6 v" F/ U! i1 @1 B
    晨枫 发表于 2024-9-16 16:397 [- n7 ]* K( {4 k
    但干式到浸润的步子没那么大,这说对了吗?

    4 U) E7 }& G' p1 G
    ! U1 x8 P. h( P1 T3 Q按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定; ?: b  {; [+ D, B
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述

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    25#
    发表于 2024-9-17 11:08:25 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 03:34
    ) V! D. j. m$ b, c不过EUV制作7nm可以轻易一次曝光,产率和良率应该提高很多?
    ) G+ a; Y, E, g% V+ R
    理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程,需要各方面不断打磨,才能接近理想的结果。现实中的例子,台积电用193nm光刻机率先量产7nm,三星则以更先进的EUV光刻机应战,由于对新型光刻机的熟悉不足,结果良率低下,很多人抛弃三星。最后三星赔本赚吆喝,开出比台积电低30%的代工费用,才勉强留下大客户。

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      发表于 2024-9-17 15:28

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    26#
    发表于 2024-9-17 11:13:01 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
    9 c3 q+ R, W+ B( |5 `' h& f按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
    6 R+ R2 ^' K5 W# O2 d所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...
    + U" G9 U# u' m- Y3 N0 ]* Q5 g
    有道理。) h! u6 |  W0 U4 g/ k
    6 F1 b. H" _* Y" H1 f! g: Y4 k; W
    不过现在看尼康和佳能的光刻机,总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦,就用最小投资吊着。不退场,但也不全力以赴。
    ) k: J* i6 }. x, d6 b' L
    . T1 ~/ O2 b: W: U4 {5 _中国肯定是全力以赴的。而且倾国之力肯定大于尼康、佳能。
    9 `% i+ V) z& F0 w& o- A# v: Q6 P" X/ ]8 Z1 E( B: \( o* f( R# q
    这会有差别吗?
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    27#
    发表于 2024-9-17 11:13:37 | 只看该作者
    沉宝 发表于 2024-9-16 21:08, Y4 C& Z* a  x) q1 o0 i- \" a: l
    理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程,需要各方面不断打磨,才能接近理想的结果。现实中的例子,台积 ...
    ; M+ s5 T. x- l+ L( e* `$ i
    这倒是个问题。都说韩国人拼,看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。
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    28#
    发表于 2024-9-17 11:19:08 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-17 10:541 D4 l9 ]4 Q- }7 s3 Z( ~
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
    , k  ^* O) u' ?2 n所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...
    ) G5 C. V2 Z" F9 x
    还没搞定?
    - h; G6 v" ^  W2 l2 D8 b  P我可能是09年去给Nikon做实验,他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡,想买个做实验的系统。我在的小破公司搭了一个,然后过去一起做,看能不能用。那个时候估计还是早期,这些基础的问题都没个数。做了几个实验,证明可以捕捉到微气泡发生,成长和运动的轨迹,我就撤了。这都十五年过去了。
    ' ^) a& ^7 X# Z' C尼康那时候已经有点不灵的迹象,食堂里面睡满了安装队的人。正常的话那些人都是满世界跑给别人装机器的。" \2 y& k: W$ r8 D

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    坛里藏龙卧虎啊  发表于 2024-9-17 15:31

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    29#
    发表于 2024-9-17 11:21:47 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
    5 j1 X$ ]% x) L2 n8 w! Z" u( b* m4 }按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定; H1 \# l8 k! E
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...
    9 y/ O; T  T7 O
    突然想起来:现在就聚焦于逻辑芯片,存储芯片用的芯片技术一样吗?前一段听说长江还是谁的128还是256层NAND也被卡了,因为光刻机的事,这说法准确吗?高端NAND需要多少nm节点的光刻机?
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    30#
    发表于 2024-9-17 11:23:33 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
    / x) z, K2 C1 P$ c( ?0 ^有道理。
    - @" K' D( ^& |5 b0 V2 f9 Q6 a$ c  ^) u1 v; I
    不过现在看尼康和佳能的光刻机,总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦,就用最小投资 ...

    - f5 m3 ^8 ]: k* p- c可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的,可是政府也难呐,到处都是嗷嗷待哺的嘴,捉了个虫也不知道塞哪张嘴里。- L5 N/ H1 z9 B
    很多年前日本媒体评价日本财政用了很形象的词,叫硬直化。所有的钱都有定好的用处,几乎没有活动钱。需要财政支持的时候十分狼狈。该做的事情做不了,钱全都拿去维持日常运转了。

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      发表于 2024-9-17 15:32

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    31#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:28:54 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 19:33 编辑 / N( ?9 s' H, C$ x6 ]( r# n
    雷声 发表于 2024-9-16 19:19: c, u& b8 v  \" U
    还没搞定?
    , G: D0 W9 K2 W7 K$ P5 ^我可能是09年去给Nikon做实验,他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡,想买个做实验的 ...

    ( q) h- L. |: O7 X
    7 L7 A1 |) _9 ^: i6 h' GNikon是稳定性不行,被牙膏退货后就没人再买。疫情前去开spie的会,Nikon还吹牛自己行了,但主流客户没人用。
    / n, `. D* m7 L1 L有网上谣言说华为买了些Nikon自己魔改做出了9100…俺比较怀疑真实性。
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    32#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:31:01 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:21
    $ O+ L! A/ E* w. [- B# r1 _2 D突然想起来:现在就聚焦于逻辑芯片,存储芯片用的芯片技术一样吗?前一段听说长江还是谁的128还是256层NA ...
    / R0 V. {+ z& S4 J( J$ ]' |
    存储和逻辑的工艺重点不一样,节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。
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    33#
    发表于 2024-9-17 11:34:00 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 21:31
    ) s! w5 n1 o8 q* E& G) [. m存储和逻辑的工艺重点不一样,节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。 ...

      q/ I7 v" ~* L  }5 n" _2 ?5 I  R7 a需要用到浸润DUV吗?
    - r: F9 u$ F: g! {6 o! L6 M; f* [# u$ C5 R: m" Q
    我的问题其实是:65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗?
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    开心
    2023-2-8 04:51
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    34#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:37:50 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:34, b% T( U: O0 d9 r- g
    需要用到浸润DUV吗?! X# g7 k( h" \% Z# g/ K
    / W( t; n2 ]9 T. W- Q
    我的问题其实是:65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗? ...

    * z1 U. |2 u; Z7 P( J: n1 c/ r' r* x* H浸水还是要的,这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。
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    35#
    发表于 2024-9-17 11:38:06 | 只看该作者
    雷声 发表于 2024-9-16 21:232 d; f2 U3 Q0 q% h9 t" `, [) i' R( H) N  D
    可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的,可是政府也难呐,到处都是嗷嗷待哺的嘴,捉了个虫也不知道塞 ...

    0 w0 v$ z4 ]" x* p是的,需要钱的地方太多,但光刻机和芯片可能是不计代价砸钱的方向,优先级比谁都高。这个瓶颈突破后,不只是军事、科技上的阳关道,经济上也是大片的处女地啊。
    2 Y' t1 i0 m; N6 u
    - \- y0 T5 u! J硬直化很形象。确实,西方家大业大,花钱手笔也大,但每一笔钱都预定了用处,活动余地真心很小。你看看美国在预算削减时那个鸡飞狗跳,就知道真是谁都动不得。“平均剃头”是公认的最坏选择,但是唯一大家可接受的选择。
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    36#
    发表于 2024-9-17 11:40:47 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 21:37
    - C. W+ g* g7 d' u$ L浸水还是要的,这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。 ...

    6 Q. |8 e# a/ x/ z/ n) y# M8 [4 K; e都说工信部这光刻机不是浸润式,但193nm光源,65nm分辨率,正好是2*1.44倍,是不是太巧了?
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    37#
    发表于 2024-9-17 11:43:29 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-17 10:542 M9 {- Q8 O8 \& G" W
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定! q# ?# D! N! M2 x8 C- o
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...
    1 I( n3 r+ z7 k" N5 O# |) T
    具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点,这个温差会让水的密度不均匀,从而折射率不均匀,影响成像。为了避免温差,必须让水快速流动混合,但又要避免产生漩涡或者析出气泡。水可以把所接触物品上的杂质洗下来,带到晶圆上,形成缺陷。当初ASML搞浸润式光刻机时,在浸液系统上与林本坚团队合作,方案修改了7-8回,耗时两年多才取得满意的结果。

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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    [LV.Master]无

    38#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:59:49 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 20:02 编辑
    9 `# j9 J" H8 T
    沉宝 发表于 2024-9-16 19:43
    . Q1 C* Q2 {. }" \  c" @具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点,这个温差会让水的密度不均 ...
    & H8 c& P1 z# h2 }# }% X

    2 p* j+ P4 c$ ^( J这当然不容易,不过两年挺快啦,看看牙膏的10nm……
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
  • 签到天数: 1811 天

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    39#
     楼主| 发表于 2024-9-17 12:01:58 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:40+ [6 l8 A' _1 `) }
    都说工信部这光刻机不是浸润式,但193nm光源,65nm分辨率,正好是2*1.44倍,是不是太巧了? ...
    0 `2 Y$ ~: m& ]
    不知道啦,也许是隐晦放风的说法。
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    40#
    发表于 2024-9-17 17:38:39 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 11:13" F7 p# J9 `, v
    这倒是个问题。都说韩国人拼,看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。 ...
    4 _& V: z1 W! i' _0 _* k
    中国大,各地方人气质不一,各擅胜场。精细活儿江南地方超过东北山东。如此说来,韩国近东北山东,台湾精英是江浙后代。
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