TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00: z# ^% ?0 O' z* C2 ]
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
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个人感觉:相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
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, X% u! n9 Y$ a! }8 g6 M" A发布于 湖南
6 {, q# ^1 \) j; ^, |; B+ }$ J来自 微博网页版
0 F$ ]6 X p) p' O啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机
1 G! Z& A( X3 Y' Z不是运过来就能直接开工的。: Z8 L5 b2 W8 S% [3 R
他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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3 v# b5 _( Y# R5 d) T8 @4 g3 k这个时间很长,也是我常年说:7 Y; Y2 ^# I, H4 W5 v7 p' ]9 I
就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。& \* e( v0 Y0 ]0 J* Z. _
2 V4 Q8 f# L/ s" w8 Z# X9 V现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。* K! S; b4 Q, D* q! s4 I) d T% q
9 O) ^2 U! P- s6 m1 Q简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。
7 \3 v/ P9 G) Z" G: J# T3 e干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
m' m2 y# Z8 u多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)
. n! c- j4 o6 J. ?. f但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了' H3 V- t2 B+ m, d; R
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没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。- X0 L7 c8 J3 n; H
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
, p% n+ B' I1 A9 X) [#华为mate70# 也没多久了。
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