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楼主: moletronic
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[科普知识] 国产光刻机猜测

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  • TA的每日心情
    慵懒
    2022-8-27 22:14
  • 签到天数: 351 天

    [LV.8]合体

    21#
    发表于 2024-9-17 08:06:46 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
    . u9 ^+ E/ @7 I  `0 m& }1 R! u也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!9 B/ e6 I& u" E, u4 @7 U( d/ K
    5 a) s4 X2 u" n  A
    个人感觉:相比于前一阵 ...

    : t" m2 n/ i+ X4 O0 Q- ^
    3 Z- }- ^, l- H" ?& I" L
    这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。

    " N1 B# f, R/ q应该会在5年内实现吧。
    $ v, Y% j( u+ o  f7 n1 v" G6 Y, b0 v5 s5 o" S
    微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)% O. N0 {: I3 {3 w4 O
    24-9-16 23:55: _: Y1 E* {4 {
    发布于 湖南
    4 F: n* f# r2 [# _0 G来自 微博网页版0 y  }% q5 R7 M, k+ r
    啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机  k! k* b5 i% B+ a" r5 t: Q
    不是运过来就能直接开工的。  @* H+ ^- p' E6 G
    他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
    7 H' e. C( ?3 B# Z1 K$ m. P- I2 M, b; [: w; [6 v: B
    这个时间很长,也是我常年说:. Y" a2 T; h% ^6 W; C6 x! I% f, d
    就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
    ; O1 R3 F* Q7 s
    3 K4 I* S4 }. Y  S$ O: o# C现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。( Y% _) l8 B3 ]5 Q3 b* r
    0 X9 \  p( s( U  E; g6 {
    简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。
    - q! T; |# d0 {3 G5 F6 @% g# G干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)6 s& q9 N; v4 {/ g
    多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)
    9 V8 M# r# a% r6 N, E2 Z但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了' H$ Q- G5 z+ E+ F; j- G

    8 ~2 C/ z- T& d0 |& p4 C8 f' U没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。4 W9 {5 m9 w% k0 O: C
    普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。/ B3 @) U" h6 o
    #华为mate70# 也没多久了。
    ) r4 r0 Y: t% V  W' x) l

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    这真是极好的: 5.0
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      发表于 2024-9-18 15:38
    给力: 5 涨姿势: 5 这真是极好的: 5
      发表于 2024-9-17 08:38
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    [LV.Master]无

    22#
     楼主| 发表于 2024-9-17 08:15:36 | 只看该作者
    老财迷 发表于 2024-9-16 16:06
    + ]* G" L/ _. S1 Y9 W" U  f应该会在5年内实现吧。% e( ]8 h5 l6 p$ {3 {

    ' o7 I9 s) k, y* E! p微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
    8 F% v' T9 Q, f/ C+ z5 ?
    6 M& E6 g2 M1 g2 Z( }
    这个有点扯,新机到货后肯定要调试的,但绝对用不了两年的时间。

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    以你说的为准 :)  发表于 2024-9-17 15:27

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    23#
    发表于 2024-9-17 08:39:20 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 18:15; [/ T& O+ E. v4 S  {5 ~1 X
    这个有点扯,新机到货后肯定要调试的,但绝对用不了两年的时间。
    6 A4 y( B- T. z3 I
    但干式到浸润的步子没那么大,这说对了吗?
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    [LV.Master]无

    24#
     楼主| 发表于 2024-9-17 10:54:17 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 18:56 编辑
    6 U7 Z- w+ T$ ]0 N  B( D
    晨枫 发表于 2024-9-16 16:39
    7 G1 _2 n, t& t/ D0 X& e但干式到浸润的步子没那么大,这说对了吗?

    , h& }, s5 r/ p* w; B0 _
    1 ^% a& ]% Z6 e9 x8 h- R/ ~1 e按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
    % a5 i  }% Y" l3 F所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述

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    25#
    发表于 2024-9-17 11:08:25 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 03:34* J1 A) q2 e7 W; X5 H5 E
    不过EUV制作7nm可以轻易一次曝光,产率和良率应该提高很多?

    / G# \# B& a# N7 B理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程,需要各方面不断打磨,才能接近理想的结果。现实中的例子,台积电用193nm光刻机率先量产7nm,三星则以更先进的EUV光刻机应战,由于对新型光刻机的熟悉不足,结果良率低下,很多人抛弃三星。最后三星赔本赚吆喝,开出比台积电低30%的代工费用,才勉强留下大客户。

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      发表于 2024-9-17 15:28

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    26#
    发表于 2024-9-17 11:13:01 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 20:547 m8 `5 |4 P7 ?5 s( X. w( E" |! `
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
    3 d$ H/ z( q( A2 V9 X: o4 s所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

    / m' U4 b: c( \3 g1 U) N$ K! V有道理。0 Q/ [/ i. v$ q7 M- m. @2 V
    2 _3 r- `2 i' ~& h6 i
    不过现在看尼康和佳能的光刻机,总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦,就用最小投资吊着。不退场,但也不全力以赴。7 T2 o: Z# N9 S! A7 l9 u" n

    ; F4 n* f5 K! R, V, g5 U9 S中国肯定是全力以赴的。而且倾国之力肯定大于尼康、佳能。
    ' a7 ~) o$ B, w% k0 h0 _3 {" z, W# m. H7 N5 y) _. A2 u8 u
    这会有差别吗?
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    27#
    发表于 2024-9-17 11:13:37 | 只看该作者
    沉宝 发表于 2024-9-16 21:08
    ; _- m. U2 \" q" ]. x% Z理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程,需要各方面不断打磨,才能接近理想的结果。现实中的例子,台积 ...

    ) h* e: l1 O  b1 A& N7 w这倒是个问题。都说韩国人拼,看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。
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    28#
    发表于 2024-9-17 11:19:08 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-17 10:548 e% X2 h- L8 [$ D+ `& q3 b& b
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定* c  Y/ Y  Q$ t; A
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...
    ! V6 p! Y/ @; `8 X
    还没搞定? $ |1 x; e; J) n. f& f! F" }- b8 i
    我可能是09年去给Nikon做实验,他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡,想买个做实验的系统。我在的小破公司搭了一个,然后过去一起做,看能不能用。那个时候估计还是早期,这些基础的问题都没个数。做了几个实验,证明可以捕捉到微气泡发生,成长和运动的轨迹,我就撤了。这都十五年过去了。
    # @* V8 P& d0 N0 [尼康那时候已经有点不灵的迹象,食堂里面睡满了安装队的人。正常的话那些人都是满世界跑给别人装机器的。9 |4 S! i1 C3 O1 U/ Q

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    坛里藏龙卧虎啊  发表于 2024-9-17 15:31

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    29#
    发表于 2024-9-17 11:21:47 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
    9 {0 D; a! q* k8 H按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
    ) h- l, i. T/ G1 K, @, S4 _6 o% G2 J所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...
    " k5 @# G4 y. O7 S' o5 s
    突然想起来:现在就聚焦于逻辑芯片,存储芯片用的芯片技术一样吗?前一段听说长江还是谁的128还是256层NAND也被卡了,因为光刻机的事,这说法准确吗?高端NAND需要多少nm节点的光刻机?
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    30#
    发表于 2024-9-17 11:23:33 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
    0 O2 Q# }$ ~9 f& x# \5 N0 @有道理。' U8 E4 {( e, G& M& B

    7 y3 O: k5 b" S9 l7 i; N不过现在看尼康和佳能的光刻机,总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦,就用最小投资 ...

    + O% S: V1 ^: |可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的,可是政府也难呐,到处都是嗷嗷待哺的嘴,捉了个虫也不知道塞哪张嘴里。
    3 O0 ^( E7 G4 {- P. B' d很多年前日本媒体评价日本财政用了很形象的词,叫硬直化。所有的钱都有定好的用处,几乎没有活动钱。需要财政支持的时候十分狼狈。该做的事情做不了,钱全都拿去维持日常运转了。

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      发表于 2024-9-17 15:32

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    31#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:28:54 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 19:33 编辑
    . [: q, Q% A% E# x. C5 a
    雷声 发表于 2024-9-16 19:19
    5 K5 B" d1 O0 E8 C还没搞定?
    $ W9 @. ?( ]" {我可能是09年去给Nikon做实验,他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡,想买个做实验的 ...
    0 \+ U5 f+ c9 X5 y* \

    # E0 I" y7 r/ \! ?& V& ]" c6 PNikon是稳定性不行,被牙膏退货后就没人再买。疫情前去开spie的会,Nikon还吹牛自己行了,但主流客户没人用。
    + Y7 X& q, ^3 y% A1 k有网上谣言说华为买了些Nikon自己魔改做出了9100…俺比较怀疑真实性。
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    2023-2-8 04:51
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    32#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:31:01 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:217 F% X) {: |/ W8 E
    突然想起来:现在就聚焦于逻辑芯片,存储芯片用的芯片技术一样吗?前一段听说长江还是谁的128还是256层NA ...

    2 B* V. P& l; z1 @存储和逻辑的工艺重点不一样,节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。
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    33#
    发表于 2024-9-17 11:34:00 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 21:315 c2 t9 l3 B: V3 _" O
    存储和逻辑的工艺重点不一样,节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。 ...
    ( R9 Y% z8 b$ h$ z1 Q! \) a8 V1 ^6 b
    需要用到浸润DUV吗?6 q) a3 ^: a, P4 [
    2 N2 n/ V0 @0 I- w
    我的问题其实是:65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗?
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    2023-2-8 04:51
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    34#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:37:50 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:34
    & R8 ^1 o/ W/ R% g, B* k' d$ K* T需要用到浸润DUV吗?
    % ~' j6 e% Z  Q/ Y* g! O3 H
    , h, {! O2 j) @5 q+ M" g, V7 a/ {我的问题其实是:65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗? ...
    ; y! h% }! ^9 Y' R$ ?( k4 ~
    浸水还是要的,这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。
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    35#
    发表于 2024-9-17 11:38:06 | 只看该作者
    雷声 发表于 2024-9-16 21:235 k: @/ P0 a% V2 i# l9 b
    可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的,可是政府也难呐,到处都是嗷嗷待哺的嘴,捉了个虫也不知道塞 ...

    % a. i3 Z5 J: p是的,需要钱的地方太多,但光刻机和芯片可能是不计代价砸钱的方向,优先级比谁都高。这个瓶颈突破后,不只是军事、科技上的阳关道,经济上也是大片的处女地啊。& V" |5 \6 W9 g2 R$ O. h
    7 z9 p' G4 l4 ?4 E* Y5 h# [  S$ n" |
    硬直化很形象。确实,西方家大业大,花钱手笔也大,但每一笔钱都预定了用处,活动余地真心很小。你看看美国在预算削减时那个鸡飞狗跳,就知道真是谁都动不得。“平均剃头”是公认的最坏选择,但是唯一大家可接受的选择。
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    36#
    发表于 2024-9-17 11:40:47 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 21:37
    7 |3 z# F$ ]% n9 D$ v浸水还是要的,这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。 ...

    / ]) ~1 @- K. _  ?; t' I: T' H& j都说工信部这光刻机不是浸润式,但193nm光源,65nm分辨率,正好是2*1.44倍,是不是太巧了?
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    37#
    发表于 2024-9-17 11:43:29 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
    / |$ V4 @2 H. r+ G# y按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定% X* I3 w9 Z' O
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...
    6 z" ]7 E8 a7 [  H% h
    具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点,这个温差会让水的密度不均匀,从而折射率不均匀,影响成像。为了避免温差,必须让水快速流动混合,但又要避免产生漩涡或者析出气泡。水可以把所接触物品上的杂质洗下来,带到晶圆上,形成缺陷。当初ASML搞浸润式光刻机时,在浸液系统上与林本坚团队合作,方案修改了7-8回,耗时两年多才取得满意的结果。

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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    38#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:59:49 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 20:02 编辑 1 L4 n, h+ Z5 o0 R. M2 {
    沉宝 发表于 2024-9-16 19:438 L6 J/ ?# M! K# s3 Z
    具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点,这个温差会让水的密度不均 ...
    3 S& X! K9 ?& T

    & L/ F7 l6 k5 R/ {- o这当然不容易,不过两年挺快啦,看看牙膏的10nm……
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    开心
    2023-2-8 04:51
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    39#
     楼主| 发表于 2024-9-17 12:01:58 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:408 `  J: B; A4 ]! }4 Z" ^
    都说工信部这光刻机不是浸润式,但193nm光源,65nm分辨率,正好是2*1.44倍,是不是太巧了? ...
    0 m# |% ~- J$ i# ]
    不知道啦,也许是隐晦放风的说法。
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    40#
    发表于 2024-9-17 17:38:39 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
    + b/ z3 A% i8 j- }这倒是个问题。都说韩国人拼,看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。 ...

    . m& ]" Z: i: \. l4 i3 L中国大,各地方人气质不一,各擅胜场。精细活儿江南地方超过东北山东。如此说来,韩国近东北山东,台湾精英是江浙后代。
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