TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
+ M$ L4 ^. F$ L; d0 ?+ t8 h6 A也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!2 L2 Y; F0 A9 i# i
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个人感觉:相比于前一阵 ...
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" G& `! u# f0 J( S! a! h应该会在5年内实现吧。/ B( W3 X/ ~0 j+ @
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微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
( F$ B1 M; [. I0 _" [& a F24-9-16 23:55, _7 |) b0 h1 a' @/ z3 U* ^, c/ ?
发布于 湖南
2 E5 E m: } l! v3 E5 M) Y来自 微博网页版; `8 V8 t, q1 I$ d" R9 B$ ^
啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机 _, c4 G; k! ?# L2 a
不是运过来就能直接开工的。1 \# u6 U5 p5 I$ q
他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。% R7 u/ A) k- x: S% }
& @2 d5 e2 g! F3 v这个时间很长,也是我常年说:
* Y4 H v# X, @# H就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。 a* o7 C7 H* i
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
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* x: ~% ]# i, J- g1 d简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。5 t% G# r& C$ D) K
干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
; s. @& `+ M& Q1 Z5 K" n( p多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)% E J: Z' s! d) R) r: L
但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
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( X7 e0 _( _3 L5 P) I没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。3 s+ V) H, f5 G" X1 h. R# p4 w* q
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。: \& N$ Z8 `4 n6 F& J0 I
#华为mate70# 也没多久了。$ p/ B! g+ M" a2 G. C) ` b6 r
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