TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00: c2 P% o. }- f8 g7 o. M6 G
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
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. O; N& X+ I3 P& h; R个人感觉:相比于前一阵 ... 0 a9 u; S4 q d& g1 |' I
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d' b3 A3 S8 v3 a! r应该会在5年内实现吧。
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' U5 V3 Z6 r$ a; R4 N微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
" m) Q" d: A; m24-9-16 23:55
, p& L6 h, v+ V) a5 D5 q发布于 湖南: G' a+ _* b b, ]. A7 V8 F& @! w% m
来自 微博网页版
. j: r0 z" U2 u6 u啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机0 d$ t9 V! y* C k# S, c: c! r0 k
不是运过来就能直接开工的。$ U+ q0 N! G4 B
他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。; c2 w. q& ]5 P0 _
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这个时间很长,也是我常年说:$ H& }2 P K( ~/ [
就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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5 U+ f/ {" Y- ^" U" J+ {现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。5 |" q" s4 t! _& ]6 l. y# L# y
0 X6 P9 W# [. l- U$ }' ]1 W- ]8 x简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。
5 s. ]) W5 P( [ G) o* w0 Z4 p干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
/ R; S! D6 ~! F$ c7 E5 M多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)
( U& ^& v1 v: y* _3 Z* O; m但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
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7 Q: }6 c9 | w& y8 \# U8 I9 s没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。7 s0 ~! ?1 ~0 n) @% L# }
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
" f, [2 R/ m c9 V#华为mate70# 也没多久了。2 o' o) j4 ]6 {1 }. N
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