TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00- y* Z( z5 h4 z- v" T5 N
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！* t& S% w) |6 H, G1 s
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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. b$ Y4 J$ X6 ~) v/ R+ P应该会在5年内实现吧。
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+ i: u! a( y1 A7 a3 T; q1 Q7 s9 q微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
: z) P6 a8 J% Y+ f( J( {* W8 }24-9-16 23:55
. t* M2 G- i# U- S2 X发布于 湖南; Y5 Z4 T9 l; q0 N
来自 微博网页版
4 M+ X% y7 z. Y8 g. P啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机6 @1 O! M1 [. m
不是运过来就能直接开工的。! _9 X& B6 m; m: X I1 f3 a, Q1 y6 k* A* B2 C
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长，也是我常年说：
7 z( g& W+ \" |5 Q! \就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。0 _: I- l" |* B2 {6 W6 L: s4 A& L# S
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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6 U4 w5 j, L" ~8 C |' q1 y简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
' a g) v j% B7 ~4 Y: {6 m5 y干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）/ o, x# U+ n2 o/ Y$ ?" {" R
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
7 T: _/ f( I% F9 [! }5 }但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了! `" T% e7 m! V# P- r* A
! _1 B4 C' u' L* b: d没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。. h1 ^9 y9 ?' ^2 |- d: Q' n
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
( I4 s+ d2 K5 c3 w3 @, W6 a#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20