TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
5 Z8 H; p0 J l2 l) L3 q1 i6 x也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
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个人感觉:相比于前一阵 ... : j" O+ Y `' f# r4 r
* x( j1 [( u# Z, X- s5 k' a0 h
& X' ~) x6 w l8 a$ Q- Z) O, b0 S应该会在5年内实现吧。; b8 m, |; d7 M3 ] T. V
4 Q( a" h+ s4 X& {9 E
微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看), @- t7 i" O {6 y$ I$ R
24-9-16 23:55
; w3 J, J9 C7 d1 A. d% m1 V发布于 湖南9 n8 ?- ~ J5 b5 p* b+ L- B* s
来自 微博网页版
1 w2 s; P- j' Z. a- n$ }啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机" A( `% v [$ U/ J5 K* Z$ w
不是运过来就能直接开工的。' D$ U2 z) B$ Q. W9 `0 x; J
他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长,也是我常年说:
# D' u$ t5 N0 F! d7 p就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。$ t( |4 w/ f. I J* d
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
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简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。; [ m; x* }3 v( j! A: N
干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)4 n4 S: i4 J* L) I+ {' f2 \, v* m
多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)# |; ?% J, M4 b' V, ?4 I! h
但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了- o$ o' q! Y% M
, ], b, \. |3 y
没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
( P8 a/ H' Q) u" Z) `普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。& K0 a; X X8 M
#华为mate70# 也没多久了。
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