TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
1 I5 ?2 S; h% J2 u: _9 m也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！0 v* c8 t d! r3 |2 g7 W
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。0 F2 |; ]) i! K2 F, v
% C' o# E5 e" D: B6 C4 n, c微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
5 E' q7 Y3 F x/ y3 K24-9-16 23:55
A) }* E; b2 M! u发布于 湖南
. l* ^* P% Q; z1 n4 l/ B/ |来自 微博网页版
; n5 f) [) Q$ Q+ n/ G啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机: c! Y: @% x, L! _# ^" {
不是运过来就能直接开工的。
. U4 m& h' r/ s# T, P他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长，也是我常年说：5 g/ L& e7 q# a3 v! `' `3 {/ d
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。4 m: R7 H) E( A
$ ?/ z/ J! G# V( M) ^ A7 e现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。8 m: X( q, R) e2 [% n P# }
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
5 H! z" x$ ]. @! i7 o& H干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
: J) M6 {# e# { N6 g多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个） H: V5 R, l. r( N- u8 ?- G
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了6 B$ p& c9 Z7 {& P7 h( b' O1 g
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。* r7 t- g0 B. w- }
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
, M8 o9 P }2 H v- H4 s9 m+ g7 V ~#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20