TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
* x& }. X4 l, f$ Q1 V也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!: F" }* w: Z/ M0 z; B
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个人感觉:相比于前一阵 ... & a0 h8 r; w7 P: B& e
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8 M/ @2 ]0 N- Y4 x0 m; a应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)0 U' M. M) y5 [/ G# g6 _, a
24-9-16 23:55! y8 D1 ]* i2 p$ q( i& B, K9 J) E
发布于 湖南
" J7 B0 r$ N2 |- L来自 微博网页版; O" p5 b* U7 h# Q
啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机
1 L9 V4 z+ @1 \. r# W2 f不是运过来就能直接开工的。
/ X& D8 L$ k- u+ R8 v; o# e他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长,也是我常年说:6 H. w5 c5 b2 e
就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。& t" K9 L( g* y$ T# f
# [7 e4 F: o \3 T0 k: T现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
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6 X t, [, @3 b3 A: |, [简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。
8 w% y6 L. T$ g6 ?# H干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟), p! d4 j$ x- Y# H s/ J- Z0 M
多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)
0 @3 `0 G! d# | G% ~3 i" v9 [但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
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没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
k9 w9 N( ]4 L! y: F普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
5 |6 m* y W" ^- g3 X#华为mate70# 也没多久了。
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