TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
; E8 `6 o! f) l也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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8 D+ j1 Z: t8 L- `1 ~, \4 s个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）. i( W" l2 I2 J6 _4 N+ N
24-9-16 23:55$ r n( F4 m n$ A0 h( d
发布于 湖南" v9 @7 l2 k5 z0 {) q- G R
来自 微博网页版
# _) _0 D8 ?; ]+ t7 e) l5 s: o0 K# @" D啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机% w0 a% }6 C/ c! h J
不是运过来就能直接开工的。. ~( f" x7 a$ R( ~) ]
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。9 O7 Y9 P d: u. `' j
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这个时间很长，也是我常年说：
! T$ a T1 K0 f6 l, I6 I" ~就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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! m3 `- d1 y6 {# E& d/ I4 z- H% p现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。- \" q) s9 o; e; E
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）! a+ c |7 I6 G0 S
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
) I( s& j" [* J$ ^2 W) e7 r但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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( q+ q2 v! i' D* R( R% n2 A) u0 l没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。. X% D+ l* l! K O2 |
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。4 n$ d6 p: j; q* P" S, E9 D
#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20