TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00' s: W# s3 W# J( _3 x
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
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个人感觉:相比于前一阵 ... $ P0 J! Q+ V& _0 T# ]- D
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应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)' b( |; i% W. `% I; A7 h
24-9-16 23:55
' X/ M- D) f( D发布于 湖南/ u$ @- t7 @* [; z, ?
来自 微博网页版
- |4 T( t, u4 E9 j ~7 \啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机+ ^ k8 u- `. F! }- f+ |, l$ b
不是运过来就能直接开工的。4 c% [" J! ?( H& v
他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。: u! x2 r l/ r" x8 A
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这个时间很长,也是我常年说:
8 g9 { V Y& A/ a ?就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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" d) [& @' P1 l: s5 ?6 i$ O现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。- O' d8 ]! }9 ~8 s; r
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简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。6 a$ {0 f& E) P
干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
/ N5 f! H3 Y7 ?# V多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)$ y O7 X8 O+ \. ?( T2 u
但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
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没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。4 v2 [4 S- {; g+ s3 j ]
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
2 U3 h1 D& J0 x; N8 w) H4 G#华为mate70# 也没多久了。* O& {3 k9 N' x Z5 ]" s1 O
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