TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:004 g" |4 ~! b: |; m. l' u0 u
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！& K. t- n1 B! E5 H
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。
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& N+ b; t' m+ {& C微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
: A% j. M8 @$ ]( n6 G( x8 i24-9-16 23:55
( U* x! A- d7 c( ~* b6 N' T! @发布于 湖南- b' a' D' H$ s: {
来自 微博网页版0 _5 M6 Q8 {1 d' \5 r. f. j
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机( v7 }+ k: d3 G8 [7 b# X
不是运过来就能直接开工的。
# G9 o. |! B3 \/ s+ a他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。1 T/ t: x9 G: ~% N; D8 M
3 b4 T' L4 L! O这个时间很长，也是我常年说：
5 Q- o/ E4 Z+ ]1 B' @% U* }; |( L: x/ J就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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3 C* E& D" M1 a7 B0 x; S) S( v- _0 u现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。 A3 n9 \# G# S: Z6 e7 v* t6 e
' ~. c9 N( ]( U3 d5 i简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
+ C6 U6 n, {2 X% n: R+ g干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）6 n5 p* h7 G( x$ J1 ~/ i; l
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
. d1 P! W4 z* g7 o) h% x$ F& \* A但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了, c( u$ ~. L' C9 e! ~
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
& w/ v/ R U0 Y: k0 \普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
+ ~' L1 }/ s" I. ?3 C#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20