TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:002 n @& E5 p4 G) u; H2 ]* F
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
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个人感觉:相比于前一阵 ...
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0 @% i& [' d3 m4 N# N+ H应该会在5年内实现吧。
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& I$ ^4 j# w. _, R- p3 {微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
/ H, b% g4 T. |24-9-16 23:55
5 z" n6 m. g j; m a$ F发布于 湖南
4 n$ v- h9 Z2 {) j4 k6 [4 B/ M2 w9 J b来自 微博网页版3 a: Y' s2 f. V& S- n2 E9 m
啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机' p( E& {! o" z/ a
不是运过来就能直接开工的。
4 Y: X5 p+ u* k& w5 r5 Q他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长,也是我常年说:
. E( c7 V6 \" Y/ f- j就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
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, H7 p; C4 B, ^- W) }* A简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。) `" U/ x4 }" i8 d2 O) A3 O
干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)) h* k4 W7 p2 U5 H! W ^: O
多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)5 ^$ _/ t p9 b
但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
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没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。4 s7 s `2 |9 |, c
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。0 S* C$ `4 b$ ]3 P+ t* j
#华为mate70# 也没多久了。: y4 ^# d! a7 `0 c) U4 w
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