TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:001 |' b2 w( W& @; C8 t
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!8 x* D3 L- M: V( h2 x* ~
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个人感觉:相比于前一阵 ... $ ^7 m# H, q/ `; ]5 k! w* D& E5 J
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7 E& i' e- n5 z# O应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
9 R: `+ O+ V# j1 j- ]4 g24-9-16 23:55
1 p3 ?9 M( R5 |6 A5 N发布于 湖南
5 Q+ J6 B* C6 E来自 微博网页版9 f- N. I9 ^/ ]: a8 ^
啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机
/ f( l- k" a8 |: J) n不是运过来就能直接开工的。
5 F4 d6 q8 N6 I: e: j他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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3 I! N* B& Z" Z* j. r, [这个时间很长,也是我常年说:+ U! Y, C2 m( K r
就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。" v# k [- Q( e8 x9 s& x0 h: _$ F
( X% r [. c% x5 }- a, _. v, e现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
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简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。4 l% ?) Y( G6 o8 {" p- o
干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)4 x, I+ n6 a" j* U4 P" D
多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)
2 K! }' w& Y- w& ]: v- z/ u F! d/ G8 W但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
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! S6 m7 u' y% b' r% X8 e没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。, ^4 e+ u' p. f* ^7 q: A) @
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
; [, ]" Z( B4 v0 S* N, o#华为mate70# 也没多久了。
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