TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00 Z* y6 b- Z8 ]2 c
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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; L0 N. s8 X8 F& h, M2 r个人感觉：相比于前一阵 ...
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' ^: _+ x& I; b* Z应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）8 e0 Z9 q+ Q- e+ m2 ~; w0 ]
24-9-16 23:55
f$ Q2 M k9 u- A3 o发布于 湖南
* p# P( {" `4 ]) {2 D来自 微博网页版, H, J3 _2 d" T9 J' n) ~
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机, j" ~% q; ?+ {6 p- [
不是运过来就能直接开工的。
7 @+ w5 B; i( u& s _3 d他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。& ?. O) \% \8 |, g* y/ r$ K* h/ e
( d) N" [5 F! a( W这个时间很长，也是我常年说：
. ^* J& M9 [8 E3 `) A7 U就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
7 X' h) }6 L$ Y1 Z }
$ z8 L/ {6 o0 l6 w% ~现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
0 }% g9 V& v! Z9 o# u干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
S, O* b( u# M! a% g多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
- `/ q, x6 v3 L但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了+ r8 Z, i- t& p) T: ~4 j) B% s6 W' c
$ r. s! M2 p3 `9 c& r( b没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。/ j& X& H0 }& ~% K
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。2 Q# j) P$ s5 c9 F
#华为mate70# 也没多久了。* ?+ l7 F9 `/ o% p
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20