TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
$ [0 M: b( ?+ |0 [6 D* w也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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) _1 }# m" h1 e' X个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。- Y1 a/ c* n7 R& B4 p1 J0 R5 H
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
; q; X, @* [/ `. q+ j& {24-9-16 23:55
, f" D( j' @2 G% A发布于 湖南7 a! Z) X& q9 @& t# f5 U: p
来自 微博网页版
( {) @9 J' ^5 M ^1 ]6 w啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
- Y* C) s, r! Y' h9 _! O+ U不是运过来就能直接开工的。
8 O1 n6 J( j) D: J/ Z) }他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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& O. U7 ]- q, N/ l8 t6 |这个时间很长，也是我常年说：
# [( T: i/ ^& m4 r就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。6 N( r# O4 |* c0 U. Z
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。' }2 b: g+ |! q% O; B. @5 U
, c/ u) A/ k' q# |/ }" x2 p& E; R简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。% [8 d' N% Z: b' F9 O
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
4 M- n# b/ f8 W$ V6 w N. s5 _多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）: ^/ Z; D, ?6 h' ]- e' q
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了; z# b) ~9 [( T" |9 t
/ D# M" Z: E, m, @& |! ?3 f: b没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。0 R3 I' }) ]8 t6 R. v' n0 {4 i$ ?6 e
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
# j# y3 w$ O9 q9 m; C. y#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20