TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
8 F3 Y& ^ c1 q- E: D也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！+ I- M3 _. l. V$ i1 d4 k3 X1 f
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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8 c- m* e m" }; \2 r应该会在5年内实现吧。! M$ R2 L0 F( J5 ]$ ?- o8 w
7 [' a J! |+ g: h微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
- L9 v }4 s/ H8 C( K9 o24-9-16 23:55
( v$ l/ M2 {. C( |. R$ k发布于 湖南
( O. I" L$ A. \/ \来自 微博网页版
7 R1 a- I! K5 f9 v3 y( O啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机0 E) U( o8 B& m/ U$ t6 d! P/ {2 s
不是运过来就能直接开工的。. c+ ^3 {8 S' X
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。! g3 _- U# L& ?6 j, C9 Q! t* w& u
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这个时间很长，也是我常年说：
0 R+ `9 ]% Z- ~, @就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。: Y' g. j8 f5 b/ \: o
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
" d) u; B) q' S9 ?- {- f N多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）2 `, J! s: C1 ?* L/ g
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
& a h9 }& j. g: V& e普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。0 P4 A5 f- H1 |4 p0 t
#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20