TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:002 @3 _: y3 U* n/ ~9 y
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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# v. @ Y# `1 M! S$ x* r2 `个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。6 l5 e H" C; \: z
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）3 N' Z" O7 t5 W2 s3 G3 k* l
24-9-16 23:55: y& d) N) ^ r, L# T! S
发布于 湖南, Q' N, q& U5 F8 j8 @9 E
来自 微博网页版
A: a( s; ` c9 b4 g* Q9 t啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
2 d1 K r( }" g/ a6 H不是运过来就能直接开工的。
! ?. F0 g' E" @5 s/ [他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长，也是我常年说：
$ r4 i9 \ ], }1 p% R, e- h4 {* q就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。/ r: O- ~. a7 k7 h* @' m+ [
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。. v7 [7 D: [' w$ Q3 t" c8 `
1 Y6 `% p, a- a: N! ^# c3 c P) q简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。7 [8 g& K4 W# K* `% l
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）( t: a; P# j) J" n I
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）) P# |: {& l7 B: N0 J; z- I
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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( e, i* l; ~, ]: c% O3 O, J没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。# }: M! z- H3 p3 n9 G& v
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
5 C$ c. _$ f& P0 n; @- H! Q#华为mate70# 也没多久了。( u' X5 _$ `/ z' |7 B2 p* e
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20