TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00 C8 Y. z) N% W: j u* b
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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+ w5 D1 B: ?, C0 |0 f个人感觉：相比于前一阵 ...
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2 {, Q3 L5 h4 T应该会在5年内实现吧。
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0 J1 w; H' u e+ _0 ^微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
2 Z# e" k. Y. @: U; k2 j* g/ `& j" [+ ]24-9-16 23:557 }( _0 u0 j3 ^
发布于 湖南
. b5 @6 Q( t, W来自 微博网页版, d' g1 p `. N
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机1 L% V$ @! ~' \
不是运过来就能直接开工的。# r! c- [$ H6 \; j8 }1 T+ w; e0 n
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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' X; F7 P' s4 T* t3 `5 a. S这个时间很长，也是我常年说：2 B, t5 F. M) h: H: p
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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4 X' B1 Y) A+ G6 W: j6 @现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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0 ?/ a7 J0 ` v* y8 k% L1 u1 Z& p简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。" ?8 g7 y9 R i+ R
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
( s- H( I. ]/ P8 y% Z多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
2 E; M7 X: Q. B$ P8 b但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
2 P3 k. o7 X G' ]+ W! n! X* m普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
, g Q. J& H2 l8 j: a+ g, _9 \#华为mate70# 也没多久了。9 K6 @' P: p( \/ f, b# O7 B/ X7 K8 b
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20