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[LV.Master]无
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[LV.9]渡劫
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马鹿 发表于 2024-9-15 04:18 & p) W- h g" `我还以为你才30多岁。。。
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[LV.4]金丹
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[LV.8]合体
moletronic 发表于 2024-9-16 09:46 5 P' Q" B6 Y5 z公布的参数只能确定的说解决了65nm的有无问题,对于代工厂来说要不要用还有几个关键参数没说。比如生产速度 ...
老财迷 发表于 2024-9-15 21:19( k) A! U# I8 B% k- j% ^/ a 感谢感谢) m3 u) P; l) Q4 ^ ' w9 t% ~7 H) I- Z3 U, F 工信部公布的是:2.1.6 氟化氩光刻机 晶圆直径:300mm;照明波长:193nm;分辨率≤ ...
晨枫 发表于 2024-9-16 14:00 5 Z6 _3 [6 ^+ Z+ L5 T也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!+ }$ a( p) i1 p4 J . m5 M# O) j$ y 个人感觉:相比于前一阵 ...
moletronic 发表于 2024-9-16 07:42 ! F: ?+ Y- ?; c) X6 {EUV没有透镜,只有反射镜,整个光学系统完全不同。目前看不会再搞浸水了。 ...
沉宝 发表于 2024-9-16 12:465 i/ K K7 ]0 a, {: H8 [' ^ 不存在28nm光刻机,只有28nm工艺节点。 4 D9 ~& R0 A; _& Q* n& p* [8 P9 d* E' V7 a6 S5 ] 从光刻机所用的光源上来说,只有 193 nm (ArF激光) 和 13.5 nm ( ...
晨枫 发表于 2024-9-16 11:21! G, n# d8 o1 k$ h4 h4 B- y 也就是说,EUV用浸水没有用?
moletronic 发表于 2024-9-16 14:38 ( B# D, w1 c3 ~理论上有用,但目前没看到在路线图上。估计是水对EUV的吸收太大,本来EUV光源的强度就小。 ...
晨枫 发表于 2024-9-16 12:39; K7 b2 ~6 P0 W" s$ n 是哦,连透镜都不能用,水可能更加不行了
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