TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
' X) ~" @) ?- S也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
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( F+ o7 u- U1 ^个人感觉:相比于前一阵 ...
1 [0 b+ i5 f5 \+ E1 s, z, E C/ I/ L6 u) ~+ C- `, \0 t! x4 F
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应该会在5年内实现吧。 R v) h$ P( k* B* }
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微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)' H) `, w% b! n. k' h
24-9-16 23:55
8 G, N; w% o& s* v发布于 湖南
: p+ s4 D4 ~. a+ r: W0 X7 P0 m" x来自 微博网页版
0 x" f& }/ h2 S* b啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机( X; e0 T* r# ?% W" ?) A( X
不是运过来就能直接开工的。
4 q0 H% @* Q a9 I% U他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。; v1 d1 O$ J' |2 w8 {) t
+ Z: q+ s" C* c% M/ X ?) D
这个时间很长,也是我常年说:* ^! `" L% y# z
就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
" }# v( v- i* X6 P/ Z7 O$ p7 L6 a5 d1 L. k5 T
现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
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) \3 ?+ {1 t* M! m9 P; P* v简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。: Y P: s& Y" L
干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
" Q' ~0 S% c" B. x: c" K9 ~4 \5 Y多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)
: M( d" U" \9 w4 V1 Q但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了" [' {, y: U/ C. N, @
l2 f) |( `/ G0 L没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
; X' S$ x* j9 G7 ~1 D' n6 i6 |% F普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
5 b: b) D. O! E* R' q. r- s#华为mate70# 也没多久了。5 o# s0 E/ j; ~! |
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