国产光刻机猜测

老财迷

晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
) h. |/ ~. Z$ E
个人感觉：相比于前一阵 ...

9 N5 F& a; G% W9 @( v

这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。

: i$ U! x4 Z. O# G9 n  d应该会在5年内实现吧。

微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
24-9-16 23:55
' S" j# ?* B" R发布于 湖南
( t6 ?$ Y8 I/ V3 F( a来自 微博网页版
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
不是运过来就能直接开工的。
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
  V9 @) I& U+ Q7 _% Q. f4 `3 _
" S. r: s7 F" Z* R4 H这个时间很长，也是我常年说：
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
; Q$ {/ }, v' m9 I9 Y" l
0 ^* h  z- }. @+ w6 A9 u现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。

- k5 P% y* b, A  _9 a简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
, w2 D" i# A2 @5 v但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了

2 u7 o5 m9 w7 Y7 _5 u# Q8 ^* \没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
  M/ f7 I1 \5 W  ]% t7 `普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
#华为mate70# 也没多久了。

moletronic

老财迷 发表于 2024-9-16 16:06
7 M# F/ d! i' ]6 \* z3 `" V应该会在5年内实现吧。
7 _% ^0 E+ ~# U% F8 _
0 h, @( p2 {7 J微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）

8 U$ K* H4 v  b# l- ^) @0 W4 c9 y$ O& i
这个有点扯，新机到货后肯定要调试的，但绝对用不了两年的时间。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 18:15
这个有点扯，新机到货后肯定要调试的，但绝对用不了两年的时间。

但干式到浸润的步子没那么大，这说对了吗？

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 16:39
3 s' h" [* W7 n. F8 |! R4 Z8 }. F但干式到浸润的步子没那么大，这说对了吗？

* A  ~) O2 s, ]* ^* N& E5 s按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述

沉宝

晨枫 发表于 2024-9-17 03:34
: p: T) C' P, `- l, E不过EUV制作7nm可以轻易一次曝光，产率和良率应该提高很多？

8 ~: M& Q( I( ]: |6 u理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程，需要各方面不断打磨，才能接近理想的结果。现实中的例子，台积电用193nm光刻机率先量产7nm，三星则以更先进的EUV光刻机应战，由于对新型光刻机的熟悉不足，结果良率低下，很多人抛弃三星。最后三星赔本赚吆喝，开出比台积电低30%的代工费用，才勉强留下大客户。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
6 U  p6 T7 H+ r+ c按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
6 ]7 `6 o3 y! X" k. }所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

! X5 ?) z' e% z5 O4 O有道理。

" Z( I  q: T; c* C5 f- j不过现在看尼康和佳能的光刻机，总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦，就用最小投资吊着。不退场，但也不全力以赴。

5 [+ m2 {" L7 ]/ y" f中国肯定是全力以赴的。而且倾国之力肯定大于尼康、佳能。

5 Z5 [6 q+ X' o8 X/ g" ^) J* c这会有差别吗？

晨枫

沉宝 发表于 2024-9-16 21:08
( D' j* `0 {1 T% Q7 h理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程，需要各方面不断打磨，才能接近理想的结果。现实中的例子，台积 ...

这倒是个问题。都说韩国人拼，看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。

雷声

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
# K. J9 b# ?5 F+ N. ^) ?( g( B按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

, R) G0 i% o6 t还没搞定？
我可能是09年去给Nikon做实验，他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡，想买个做实验的系统。我在的小破公司搭了一个，然后过去一起做，看能不能用。那个时候估计还是早期，这些基础的问题都没个数。做了几个实验，证明可以捕捉到微气泡发生，成长和运动的轨迹，我就撤了。这都十五年过去了。
( ~5 y$ `3 S, I5 a$ W' T尼康那时候已经有点不灵的迹象，食堂里面睡满了安装队的人。正常的话那些人都是满世界跑给别人装机器的。
5 M  a5 p; _; C7 }" _6 m

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
' x6 l- D/ t, Z( u5 X4 p) {按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

突然想起来：现在就聚焦于逻辑芯片，存储芯片用的芯片技术一样吗？前一段听说长江还是谁的128还是256层NAND也被卡了，因为光刻机的事，这说法准确吗？高端NAND需要多少nm节点的光刻机？

雷声

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
. N7 N/ s8 ?, O. Z' k0 ^' ], |+ t有道理。
1 V( h  G: f7 c0 n/ W
不过现在看尼康和佳能的光刻机，总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦，就用最小投资 ...

可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的，可是政府也难呐，到处都是嗷嗷待哺的嘴，捉了个虫也不知道塞哪张嘴里。
$ G: s' ~3 `( q4 z很多年前日本媒体评价日本财政用了很形象的词，叫硬直化。所有的钱都有定好的用处，几乎没有活动钱。需要财政支持的时候十分狼狈。该做的事情做不了，钱全都拿去维持日常运转了。

moletronic

雷声 发表于 2024-9-16 19:19
* P: u" q2 v" r$ k9 z还没搞定？
3 a5 H/ p7 S7 B& t* `我可能是09年去给Nikon做实验，他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡，想买个做实验的 ...

) c8 R% O: C8 _7 C" L# c
Nikon是稳定性不行，被牙膏退货后就没人再买。疫情前去开spie的会，Nikon还吹牛自己行了，但主流客户没人用。
  K" d7 ^5 k7 y. |  G5 U有网上谣言说华为买了些Nikon自己魔改做出了9100…俺比较怀疑真实性。

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:21
0 Q  ^, ?' R8 i8 w, {# x1 U$ m突然想起来：现在就聚焦于逻辑芯片，存储芯片用的芯片技术一样吗？前一段听说长江还是谁的128还是256层NA ...

存储和逻辑的工艺重点不一样，节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 21:31
* X* B8 \* L  K! `4 c存储和逻辑的工艺重点不一样，节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。 ...

3 |0 u6 M3 v: [5 Q+ ]需要用到浸润DUV吗？
) }1 y* z" O& }% P" A
/ z' L& A5 R$ w* [! t* ~- P0 C* J9 d: o我的问题其实是：65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗？

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:34
需要用到浸润DUV吗？
+ X; n# v# v2 {0 j  r$ `
# _7 _9 ?5 I7 ]$ x我的问题其实是：65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗？ ...

& z$ g" G' B9 [  G& _+ R/ V2 J浸水还是要的，这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。

晨枫

雷声 发表于 2024-9-16 21:23
) Q9 U0 G( m  a8 k9 u可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的，可是政府也难呐，到处都是嗷嗷待哺的嘴，捉了个虫也不知道塞 ...

  q4 M6 ?6 \( a  E1 Z( B! S* ]是的，需要钱的地方太多，但光刻机和芯片可能是不计代价砸钱的方向，优先级比谁都高。这个瓶颈突破后，不只是军事、科技上的阳关道，经济上也是大片的处女地啊。

7 }% Q$ F, @; {3 O4 M3 z0 ^* h4 R硬直化很形象。确实，西方家大业大，花钱手笔也大，但每一笔钱都预定了用处，活动余地真心很小。你看看美国在预算削减时那个鸡飞狗跳，就知道真是谁都动不得。“平均剃头”是公认的最坏选择，但是唯一大家可接受的选择。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 21:37
: D" b& B8 I1 E" h: y浸水还是要的，这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。 ...

' w% N: d. O4 u$ G1 _都说工信部这光刻机不是浸润式，但193nm光源，65nm分辨率，正好是2*1.44倍，是不是太巧了？

沉宝

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
5 p6 f4 a) E7 Y. o# c所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

4 _7 M/ ]! Z+ T: S具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点，这个温差会让水的密度不均匀，从而折射率不均匀，影响成像。为了避免温差，必须让水快速流动混合，但又要避免产生漩涡或者析出气泡。水可以把所接触物品上的杂质洗下来，带到晶圆上，形成缺陷。当初ASML搞浸润式光刻机时，在浸液系统上与林本坚团队合作，方案修改了7-8回，耗时两年多才取得满意的结果。

moletronic

% _' h+ W3 |. d; ?3 m) n

沉宝 发表于 2024-9-16 19:43
! z7 y+ Y8 A: t3 a具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点，这个温差会让水的密度不均 ...

& \( T! N: G7 F; m& m3 W
- q) n% Z# g, n7 A' [( Y这当然不容易，不过两年挺快啦，看看牙膏的10nm……

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:40
都说工信部这光刻机不是浸润式，但193nm光源，65nm分辨率，正好是2*1.44倍，是不是太巧了？ ...

不知道啦，也许是隐晦放风的说法。

hsb

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
这倒是个问题。都说韩国人拼，看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。 ...

中国大，各地方人气质不一，各擅胜场。精细活儿江南地方超过东北山东。如此说来，韩国近东北山东，台湾精英是江浙后代。