国产光刻机猜测

老财迷

晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
3 I2 H8 B* E+ M/ v也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！

个人感觉：相比于前一阵 ...

$ S( z+ q1 U+ g7 Z

这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。

6 i4 s; |2 Z. y& R应该会在5年内实现吧。

: F. Y+ M, i- R# E. G0 G微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
% D5 u" j- U4 K# S3 T) W8 S24-9-16 23:55
" H. E. l3 [+ y! V发布于 湖南
  _/ U" F$ _1 I2 b来自 微博网页版
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
不是运过来就能直接开工的。
& r4 _; E) a8 c# \( l) ^/ P4 p" s他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
( G/ P0 [) c& z! e6 X" o# Q
这个时间很长，也是我常年说：
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。

现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。

6 _3 s0 Y. @. b简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
) b4 m( A9 Y# F1 B6 \+ f干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
* J& O. l# X0 ^" q' l; R- G2 m% n但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了

( A: }% i  I( @! t7 u& z) R没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
$ _$ m- P( q6 U: R% B, l" q普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
3 L4 [7 i( d; _1 M+ U2 G8 N#华为mate70# 也没多久了。

moletronic

老财迷 发表于 2024-9-16 16:06
3 h8 L# T$ T7 H0 R, `2 x应该会在5年内实现吧。
+ W) g/ ]/ b: m0 C6 v$ g1 x9 N
微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）

3 g1 N. J. F0 O1 u0 F! m$ L
这个有点扯，新机到货后肯定要调试的，但绝对用不了两年的时间。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 18:15
这个有点扯，新机到货后肯定要调试的，但绝对用不了两年的时间。

0 j  r1 h2 k; Q; E3 Y: b但干式到浸润的步子没那么大，这说对了吗？

moletronic

/ _( S" N" `0 v/ Y5 v( g

晨枫 发表于 2024-9-16 16:39
但干式到浸润的步子没那么大，这说对了吗？

+ @4 k& f: Z, y. a. `  l
1 B* @6 b+ b7 M" R8 ?& X按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
! M, a, G2 O9 x& P1 _  \所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述

沉宝

晨枫 发表于 2024-9-17 03:34
不过EUV制作7nm可以轻易一次曝光，产率和良率应该提高很多？

3 Z+ o! ]! Q: l" Y7 B理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程，需要各方面不断打磨，才能接近理想的结果。现实中的例子，台积电用193nm光刻机率先量产7nm，三星则以更先进的EUV光刻机应战，由于对新型光刻机的熟悉不足，结果良率低下，很多人抛弃三星。最后三星赔本赚吆喝，开出比台积电低30%的代工费用，才勉强留下大客户。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
. `1 w$ }" l6 `4 U& A所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

2 S  [' z3 ^0 Q! q( G# j6 _3 X  U, I有道理。

不过现在看尼康和佳能的光刻机，总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦，就用最小投资吊着。不退场，但也不全力以赴。
9 L! s3 ]5 W* D( o) p+ G' y
8 G8 g' k0 Z9 n! q* D中国肯定是全力以赴的。而且倾国之力肯定大于尼康、佳能。

+ t' {4 |# t& }  ?' }/ p这会有差别吗？

晨枫

沉宝 发表于 2024-9-16 21:08
理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程，需要各方面不断打磨，才能接近理想的结果。现实中的例子，台积 ...

0 J& b$ s1 Y. y1 ]- f6 a这倒是个问题。都说韩国人拼，看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。

雷声

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
1 \( Z6 t- B4 w, y- `& U9 m  b所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

还没搞定？
我可能是09年去给Nikon做实验，他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡，想买个做实验的系统。我在的小破公司搭了一个，然后过去一起做，看能不能用。那个时候估计还是早期，这些基础的问题都没个数。做了几个实验，证明可以捕捉到微气泡发生，成长和运动的轨迹，我就撤了。这都十五年过去了。
尼康那时候已经有点不灵的迹象，食堂里面睡满了安装队的人。正常的话那些人都是满世界跑给别人装机器的。
* p+ N# C; P1 ^6 x# e% I% }+ i; G# @

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
1 |. y. K- C- l# r所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

突然想起来：现在就聚焦于逻辑芯片，存储芯片用的芯片技术一样吗？前一段听说长江还是谁的128还是256层NAND也被卡了，因为光刻机的事，这说法准确吗？高端NAND需要多少nm节点的光刻机？

雷声

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
有道理。
) l+ a, p; d3 P6 W) D
不过现在看尼康和佳能的光刻机，总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦，就用最小投资 ...

1 K9 y1 p4 @8 Y* {可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的，可是政府也难呐，到处都是嗷嗷待哺的嘴，捉了个虫也不知道塞哪张嘴里。
" F/ g' g7 l, |! q7 Q很多年前日本媒体评价日本财政用了很形象的词，叫硬直化。所有的钱都有定好的用处，几乎没有活动钱。需要财政支持的时候十分狼狈。该做的事情做不了，钱全都拿去维持日常运转了。

moletronic

雷声 发表于 2024-9-16 19:19
还没搞定？
- d1 h1 l* P  x0 g* m; L6 x我可能是09年去给Nikon做实验，他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡，想买个做实验的 ...

Nikon是稳定性不行，被牙膏退货后就没人再买。疫情前去开spie的会，Nikon还吹牛自己行了，但主流客户没人用。
8 k1 R6 u. v3 a0 Z有网上谣言说华为买了些Nikon自己魔改做出了9100…俺比较怀疑真实性。

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:21
9 q. R/ Q0 O3 R4 C突然想起来：现在就聚焦于逻辑芯片，存储芯片用的芯片技术一样吗？前一段听说长江还是谁的128还是256层NA ...

存储和逻辑的工艺重点不一样，节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 21:31
8 Y% b4 Q; U9 s0 R- n3 a存储和逻辑的工艺重点不一样，节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。 ...

需要用到浸润DUV吗？
( z' [: {9 {- w7 g4 d
我的问题其实是：65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗？

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:34
需要用到浸润DUV吗？
9 A# U. c0 a" C! e( Z0 B  F* L
我的问题其实是：65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗？ ...

, ^* N9 Y) N9 Q浸水还是要的，这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。

晨枫

雷声 发表于 2024-9-16 21:23
$ Z$ {- N& t! h( a可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的，可是政府也难呐，到处都是嗷嗷待哺的嘴，捉了个虫也不知道塞 ...

& r& Q8 N3 B( c/ _1 J. s3 o是的，需要钱的地方太多，但光刻机和芯片可能是不计代价砸钱的方向，优先级比谁都高。这个瓶颈突破后，不只是军事、科技上的阳关道，经济上也是大片的处女地啊。

硬直化很形象。确实，西方家大业大，花钱手笔也大，但每一笔钱都预定了用处，活动余地真心很小。你看看美国在预算削减时那个鸡飞狗跳，就知道真是谁都动不得。“平均剃头”是公认的最坏选择，但是唯一大家可接受的选择。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 21:37
* G; g+ B" d# t7 H  V4 l! s$ `9 ^浸水还是要的，这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。 ...

$ q0 b" a7 L  N, I都说工信部这光刻机不是浸润式，但193nm光源，65nm分辨率，正好是2*1.44倍，是不是太巧了？

沉宝

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
! `& S9 H, `; q# N; E- X所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

* q% c2 U8 @7 N' m: n具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点，这个温差会让水的密度不均匀，从而折射率不均匀，影响成像。为了避免温差，必须让水快速流动混合，但又要避免产生漩涡或者析出气泡。水可以把所接触物品上的杂质洗下来，带到晶圆上，形成缺陷。当初ASML搞浸润式光刻机时，在浸液系统上与林本坚团队合作，方案修改了7-8回，耗时两年多才取得满意的结果。

moletronic

. }: z: _1 i8 W; Y6 E

沉宝 发表于 2024-9-16 19:43
3 y$ ]0 M# I; P/ G具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点，这个温差会让水的密度不均 ...

这当然不容易，不过两年挺快啦，看看牙膏的10nm……

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:40
; a4 k/ z, o' A7 G  H6 H' W, O都说工信部这光刻机不是浸润式，但193nm光源，65nm分辨率，正好是2*1.44倍，是不是太巧了？ ...

不知道啦，也许是隐晦放风的说法。

hsb

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
+ T7 r5 |! g8 }8 Y这倒是个问题。都说韩国人拼，看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。 ...

1 p% b" U. ]! B: i中国大，各地方人气质不一，各擅胜场。精细活儿江南地方超过东北山东。如此说来，韩国近东北山东，台湾精英是江浙后代。