TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00% y! R" \8 ^$ ]) x9 r2 p5 _6 s0 @3 t
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
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+ W) T3 A# H: T. W个人感觉:相比于前一阵 ...
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: [# m8 a! g6 J- u6 L, Y( ^应该会在5年内实现吧。
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( U( ]+ |5 p6 Z* l微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)$ h# j6 [$ m, q1 v7 N8 z, n
24-9-16 23:55
* }& b- |( X) S2 B L" \% g5 X1 K' c发布于 湖南
1 r5 e% V. ~$ w: w来自 微博网页版9 D& O$ w( g4 E8 {0 I) Z
啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机' Z3 d+ A2 V& L, @/ x6 p: C
不是运过来就能直接开工的。
& I6 o y2 @; V( c* \3 X0 p他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长,也是我常年说:/ \+ z. W: e; T6 z6 d
就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。8 A; z1 I! d' a( H! ^% v R. j
7 ~4 J' P/ i7 a2 d; R" p; j5 R现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
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8 |) w4 z6 Q, A& d简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。
0 E' k+ \1 ]4 v, \. c8 Z7 _干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
5 v6 x4 T' R6 r3 J多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)- U& d5 s0 o' y* K. s& H- t
但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了! t: Z0 w4 J n. b
: O& H- E) P: @- d0 g没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
3 Z: Z" C; P4 Z- u) i/ b: @6 t2 R普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。- W6 P l) ^. f9 Y
#华为mate70# 也没多久了。- h, C$ h8 S. u9 n9 z
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