TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
2 z* @ |/ d5 X5 D$ f! P也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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8 U" E4 H" u7 m! x0 W; z% Y个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。
6 h+ j- x; f Y: ]& u' ~/ j g! y9 Z. a8 A4 y) `6 ^% p6 C- t3 ]
微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）6 a3 s9 l1 [3 W3 Y( s
24-9-16 23:55
" z' Z) \- ^! m! a7 ?6 }发布于 湖南
3 f& _+ @( u" g3 E# _% C来自 微博网页版' Z, e, o3 z* b: l0 Y3 ]0 T% H6 Q$ W/ X
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机/ b' ~) P' d7 E
不是运过来就能直接开工的。
i J4 _2 f: V他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长，也是我常年说：5 B+ L, c9 S/ D1 n; d; u
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。* E2 I; X& }) B. F9 `
0 q0 ^/ \; S9 A* @: q现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。, P* c; U+ c4 L% Z
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。, |3 X7 s4 B o! w5 J c
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）) H2 X5 g: j( I: x0 L5 ~( ^, G4 n2 X8 |
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
7 k" T; m* g9 I9 e但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了4 `: Y# P i( I% U# l
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
- T: y3 W& A. u, r普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
. e& y8 w9 J' ?#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20