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[科普知识] 国产光刻机猜测

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  • TA的每日心情
    慵懒
    2022-8-27 22:14
  • 签到天数: 351 天

    [LV.8]合体

    21#
    发表于 2024-9-17 08:06:46 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
    ' X) ~" @) ?- S也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
    8 |3 u* m/ _$ P+ j  `5 {
    ( F+ o7 u- U1 ^个人感觉:相比于前一阵 ...

    1 [0 b+ i5 f5 \+ E1 s, z, E  C/ I/ L6 u) ~+ C- `, \0 t! x4 F
    这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。
    * j( g) l) Y7 E. D0 Y; x5 ~2 D
    应该会在5年内实现吧。  R  v) h$ P( k* B* }
    / F8 H) L) @& s/ g3 U
    微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)' H) `, w% b! n. k' h
    24-9-16 23:55
    8 G, N; w% o& s* v发布于 湖南
    : p+ s4 D4 ~. a+ r: W0 X7 P0 m" x来自 微博网页版
    0 x" f& }/ h2 S* b啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机( X; e0 T* r# ?% W" ?) A( X
    不是运过来就能直接开工的。
    4 q0 H% @* Q  a9 I% U他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。; v1 d1 O$ J' |2 w8 {) t
    + Z: q+ s" C* c% M/ X  ?) D
    这个时间很长,也是我常年说:* ^! `" L% y# z
    就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
    " }# v( v- i* X6 P/ Z7 O$ p7 L6 a5 d1 L. k5 T
    现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
    6 D. [3 T* h6 v2 G
    ) \3 ?+ {1 t* M! m9 P; P* v简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。: Y  P: s& Y" L
    干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
    " Q' ~0 S% c" B. x: c" K9 ~4 \5 Y多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)
    : M( d" U" \9 w4 V1 Q但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了" [' {, y: U/ C. N, @

      l2 f) |( `/ G0 L没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
    ; X' S$ x* j9 G7 ~1 D' n6 i6 |% F普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
    5 b: b) D. O! E* R' q. r- s#华为mate70# 也没多久了。5 o# s0 E/ j; ~! |

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    这真是极好的: 5.0
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      发表于 2024-9-18 15:38
    给力: 5 涨姿势: 5 这真是极好的: 5
      发表于 2024-9-17 08:38
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    [LV.Master]无

    22#
     楼主| 发表于 2024-9-17 08:15:36 | 只看该作者
    老财迷 发表于 2024-9-16 16:067 l' b1 J1 G, C) J1 V
    应该会在5年内实现吧。
    $ I' G$ _1 M3 M( S/ o# B
    3 `# C+ `! C, h微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
      c* B( ?1 w3 j3 S" l

    ! Q) J, T& g. y8 n: ?- X7 _- Z$ C这个有点扯,新机到货后肯定要调试的,但绝对用不了两年的时间。

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    以你说的为准 :)  发表于 2024-9-17 15:27

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    23#
    发表于 2024-9-17 08:39:20 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 18:15  Y! I, L& y- M0 Z
    这个有点扯,新机到货后肯定要调试的,但绝对用不了两年的时间。

    8 t: q! t  F% d8 E- U0 ~. G但干式到浸润的步子没那么大,这说对了吗?
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    24#
     楼主| 发表于 2024-9-17 10:54:17 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 18:56 编辑 9 N3 c/ E- [" Y
    晨枫 发表于 2024-9-16 16:395 @& ]+ R. Z/ @- D
    但干式到浸润的步子没那么大,这说对了吗?

    - f+ X4 b  N+ I& L5 j
    * ^/ O2 a+ G! K7 W% a* F按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
    6 F- A! b8 Y0 T. b3 Q- j所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述

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    25#
    发表于 2024-9-17 11:08:25 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 03:348 B) R' I4 I7 w% T8 H8 N
    不过EUV制作7nm可以轻易一次曝光,产率和良率应该提高很多?
    # K" E/ M" @; p- `6 A9 r& a
    理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程,需要各方面不断打磨,才能接近理想的结果。现实中的例子,台积电用193nm光刻机率先量产7nm,三星则以更先进的EUV光刻机应战,由于对新型光刻机的熟悉不足,结果良率低下,很多人抛弃三星。最后三星赔本赚吆喝,开出比台积电低30%的代工费用,才勉强留下大客户。

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      发表于 2024-9-17 15:28

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    26#
    发表于 2024-9-17 11:13:01 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
      v% W# w- q# H3 o' z: r按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
    9 z2 K, @. S; M# L6 C所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

    4 O( ?1 v8 ?. r' y& U5 \" }有道理。3 K5 }( F0 L% ^( ^
    , y( x; m2 D8 X% C  Y; f
    不过现在看尼康和佳能的光刻机,总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦,就用最小投资吊着。不退场,但也不全力以赴。: b# f. Z) ?# V+ l: i! I
    - J) T9 I5 K) i
    中国肯定是全力以赴的。而且倾国之力肯定大于尼康、佳能。/ I3 I6 e0 A6 [/ i3 K, [% y: f# r3 M

    # v/ ?& A* C0 n4 |1 ^5 j' D# A1 v这会有差别吗?
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    27#
    发表于 2024-9-17 11:13:37 | 只看该作者
    沉宝 发表于 2024-9-16 21:08* s) u" m% D9 `' _  g2 {
    理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程,需要各方面不断打磨,才能接近理想的结果。现实中的例子,台积 ...
    3 @; _  U" c9 i: I) U6 K
    这倒是个问题。都说韩国人拼,看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。
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    28#
    发表于 2024-9-17 11:19:08 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
    ' O5 ?3 e$ o$ M" d按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定7 l8 c( ?. E: j/ J
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...
    $ s( V- ]& {. |/ B4 ]4 g4 m
    还没搞定?
    + E6 f8 y% G7 f我可能是09年去给Nikon做实验,他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡,想买个做实验的系统。我在的小破公司搭了一个,然后过去一起做,看能不能用。那个时候估计还是早期,这些基础的问题都没个数。做了几个实验,证明可以捕捉到微气泡发生,成长和运动的轨迹,我就撤了。这都十五年过去了。% n2 j+ b0 W' ~
    尼康那时候已经有点不灵的迹象,食堂里面睡满了安装队的人。正常的话那些人都是满世界跑给别人装机器的。) @: c$ o8 T) q, h6 _$ u0 K0 M# P/ S% b

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    坛里藏龙卧虎啊  发表于 2024-9-17 15:31

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    29#
    发表于 2024-9-17 11:21:47 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 20:54' W( X) x# K. W2 U
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
    7 }& ~9 [) j) A1 R所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

    9 z" G8 ?# R2 F6 k) F6 T$ Z5 c突然想起来:现在就聚焦于逻辑芯片,存储芯片用的芯片技术一样吗?前一段听说长江还是谁的128还是256层NAND也被卡了,因为光刻机的事,这说法准确吗?高端NAND需要多少nm节点的光刻机?
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    30#
    发表于 2024-9-17 11:23:33 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 11:134 O- w' k3 d/ @/ q
    有道理。" J- `4 O8 t/ V4 g$ r- z
    + J# x. w. v5 f4 Q9 `7 g! d/ D4 c
    不过现在看尼康和佳能的光刻机,总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦,就用最小投资 ...

    5 e% `  M6 P* @6 Z. s- K- u可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的,可是政府也难呐,到处都是嗷嗷待哺的嘴,捉了个虫也不知道塞哪张嘴里。0 `9 e/ c8 r9 B% g/ q+ M
    很多年前日本媒体评价日本财政用了很形象的词,叫硬直化。所有的钱都有定好的用处,几乎没有活动钱。需要财政支持的时候十分狼狈。该做的事情做不了,钱全都拿去维持日常运转了。

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      发表于 2024-9-17 15:32

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    31#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:28:54 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 19:33 编辑
    * j. b. }. U; B6 G! @+ Y0 }; H
    雷声 发表于 2024-9-16 19:19
    & Q* I! ]( z2 c- I还没搞定?
    * n# q) }) G/ c9 [. V我可能是09年去给Nikon做实验,他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡,想买个做实验的 ...
    ; ]1 T' ~! W3 J2 z6 U9 U
    3 B4 j+ O* L! k# ]
    Nikon是稳定性不行,被牙膏退货后就没人再买。疫情前去开spie的会,Nikon还吹牛自己行了,但主流客户没人用。
    3 O# `/ @* Z- ^, n/ A有网上谣言说华为买了些Nikon自己魔改做出了9100…俺比较怀疑真实性。
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    32#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:31:01 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:21  g! ?& m1 D2 ]! I
    突然想起来:现在就聚焦于逻辑芯片,存储芯片用的芯片技术一样吗?前一段听说长江还是谁的128还是256层NA ...

    7 {. i* R) }5 E; a0 ^存储和逻辑的工艺重点不一样,节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。
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    33#
    发表于 2024-9-17 11:34:00 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 21:31- P2 R" a. ]5 O+ x  A( {2 O
    存储和逻辑的工艺重点不一样,节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。 ...

    ! n6 N# \  V, R8 |/ i5 s需要用到浸润DUV吗?3 i6 Z: ~7 u& i( b' g9 |: k

    1 C+ J3 a! ~9 A& f+ i; z6 v& n我的问题其实是:65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗?
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    开心
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    34#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:37:50 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:34* o9 H- H; Z% L' F$ H$ ?4 Y
    需要用到浸润DUV吗?
    5 x  e4 z* F5 }% U8 w! u
    ) c# Z' _# l7 t# L, d我的问题其实是:65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗? ...
    $ R6 K9 Z$ _  ]# P3 n4 S+ v
    浸水还是要的,这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。
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    35#
    发表于 2024-9-17 11:38:06 | 只看该作者
    雷声 发表于 2024-9-16 21:23% R- D, t1 C+ ~' R. n$ k0 k
    可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的,可是政府也难呐,到处都是嗷嗷待哺的嘴,捉了个虫也不知道塞 ...
    * q: ]- t+ z! d( J3 |5 B
    是的,需要钱的地方太多,但光刻机和芯片可能是不计代价砸钱的方向,优先级比谁都高。这个瓶颈突破后,不只是军事、科技上的阳关道,经济上也是大片的处女地啊。
    7 b9 K1 ^: x" H8 \! E7 m
      H: V# e! [0 `+ Y; Q硬直化很形象。确实,西方家大业大,花钱手笔也大,但每一笔钱都预定了用处,活动余地真心很小。你看看美国在预算削减时那个鸡飞狗跳,就知道真是谁都动不得。“平均剃头”是公认的最坏选择,但是唯一大家可接受的选择。
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    36#
    发表于 2024-9-17 11:40:47 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 21:373 g! D6 u2 A. G2 t$ X$ o1 W
    浸水还是要的,这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。 ...
    " k" L8 `) t3 f. |& z
    都说工信部这光刻机不是浸润式,但193nm光源,65nm分辨率,正好是2*1.44倍,是不是太巧了?
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    37#
    发表于 2024-9-17 11:43:29 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-17 10:544 t+ p, ~0 v4 k0 J( C
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
    / o: {- a1 v; ~# `; A所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

    9 }2 `1 ~8 D+ V  O5 u0 ^6 U具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点,这个温差会让水的密度不均匀,从而折射率不均匀,影响成像。为了避免温差,必须让水快速流动混合,但又要避免产生漩涡或者析出气泡。水可以把所接触物品上的杂质洗下来,带到晶圆上,形成缺陷。当初ASML搞浸润式光刻机时,在浸液系统上与林本坚团队合作,方案修改了7-8回,耗时两年多才取得满意的结果。

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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    38#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:59:49 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 20:02 编辑
    9 s0 O; j5 ~5 T. b3 L
    沉宝 发表于 2024-9-16 19:43$ O6 `$ a" L2 |5 S# O
    具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点,这个温差会让水的密度不均 ...

    5 k; V' z- I5 V" u, n" o( n) z+ }, s' K" N4 g9 _
    这当然不容易,不过两年挺快啦,看看牙膏的10nm……
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
  • 签到天数: 1811 天

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    39#
     楼主| 发表于 2024-9-17 12:01:58 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:40
    / C4 F( {3 W5 {1 ^都说工信部这光刻机不是浸润式,但193nm光源,65nm分辨率,正好是2*1.44倍,是不是太巧了? ...

    ) k% ~2 ~6 r. q* d不知道啦,也许是隐晦放风的说法。
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    40#
    发表于 2024-9-17 17:38:39 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 11:138 U, p3 z1 i' |8 ?: Z9 w) [
    这倒是个问题。都说韩国人拼,看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。 ...
    ( |* L& y2 U$ K
    中国大,各地方人气质不一,各擅胜场。精细活儿江南地方超过东北山东。如此说来,韩国近东北山东,台湾精英是江浙后代。
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