TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
" z& e' S( A, P5 k5 R# L也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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* r ]5 P+ F3 H4 Y8 ?个人感觉：相比于前一阵 ...
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; U- ?' ~2 J, f2 w4 Q- _6 ^0 s6 d
应该会在5年内实现吧。
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" [) C# W- r% C微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
3 h" f( z9 m* Q24-9-16 23:55! T# I+ l; g( l% u
发布于 湖南
& p/ b8 o0 U$ @来自 微博网页版
$ s+ R5 e( U9 V2 h7 J啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
4 [) C6 B6 C! X$ ~: M; ^( w不是运过来就能直接开工的。
& C2 ]) W: p3 h5 W他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长，也是我常年说：
5 v" {: |4 ~3 V# E0 m& o5 d就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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0 p9 h4 S% k* V. A0 U! ?2 q8 S简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
/ z4 \5 s7 r1 o5 Q1 _$ \干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
' O9 I- {2 x0 _$ v多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
: [: m3 j0 ]$ w但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了% M2 F8 R5 c3 g
. o! I. W2 O0 H. D没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。4 E$ Y7 F5 t, Y# ^! G+ b
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
% K$ f0 M4 B- `7 L* z0 k9 `0 Z#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20