TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
# |2 R) }) R& Q ~4 t3 N9 O% w也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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, |3 A7 C/ p$ R$ e个人感觉：相比于前一阵 ...
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_% q4 W: Q& E应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
+ @7 z% A { p% q) `7 |$ f; H24-9-16 23:55. e9 f/ N( g' \8 ^; o8 m, `
发布于 湖南2 r. ^5 R) u* g6 G$ H
来自 微博网页版
+ F( o8 Z, i6 K; ^- B啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机7 }8 e+ D* a L5 |: g
不是运过来就能直接开工的。- O X: z7 m- ?7 B; `
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
: Q. R8 A' y! t
' i9 V1 i7 Z$ q这个时间很长，也是我常年说：6 R i% b( t) U5 i" f) I
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。$ s1 A- O6 `, ~9 M' {
1 f/ g) _2 |, K1 l% p, a现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。* _3 l: I" \: B: \; y% k% E
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
) y) c& R f3 D6 _5 R$ Q多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）! y- p' j' i6 i5 |. z
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了$ J5 O! s! K1 ^! X8 a' {. o3 j5 X& p
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。1 i" O1 _4 R$ {8 I/ w6 C
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。$ z' n' q( f7 [3 t. k( _4 T! c
#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20