国产光刻机猜测

老财迷

晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
. Z9 o7 c" g# D- }也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
% d% j7 D# y3 \3 m
个人感觉：相比于前一阵 ...

* N- X  P7 x5 B8 I8 h$ e

这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。

/ p; {, |2 |8 r0 P4 w  w" V应该会在5年内实现吧。

微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
24-9-16 23:55
0 `7 }, T2 j3 v# N* D5 A* e发布于 湖南
来自 微博网页版
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
0 }9 n% P7 A9 Z不是运过来就能直接开工的。
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
8 L/ b" d4 h/ @3 r
这个时间很长，也是我常年说：
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
9 U. ?# v2 U2 A: Z3 {" ^3 h
现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。

简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
' Y1 c1 H6 M3 E7 W5 L/ i; b2 v多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
1 `3 T" X& G4 ?: Z但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了

( t4 J4 t5 k7 Q4 @# }: ^没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
: s# G3 h! I2 j普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
#华为mate70# 也没多久了。
# X# u. T* n3 y0 `7 m

moletronic

老财迷 发表于 2024-9-16 16:06
应该会在5年内实现吧。
. B3 H2 q1 H3 J) ?
微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）

' V* ~$ i; c. U. [! ?+ F
这个有点扯，新机到货后肯定要调试的，但绝对用不了两年的时间。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 18:15
这个有点扯，新机到货后肯定要调试的，但绝对用不了两年的时间。

' {# I3 k6 w1 F4 h7 s3 F但干式到浸润的步子没那么大，这说对了吗？

moletronic

$ [$ z! d4 t( X- A4 O

晨枫 发表于 2024-9-16 16:39
0 J* t) E' G( c5 c# i3 s但干式到浸润的步子没那么大，这说对了吗？

( E& @" w$ ?/ p
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述

沉宝

晨枫 发表于 2024-9-17 03:34
不过EUV制作7nm可以轻易一次曝光，产率和良率应该提高很多？

理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程，需要各方面不断打磨，才能接近理想的结果。现实中的例子，台积电用193nm光刻机率先量产7nm，三星则以更先进的EUV光刻机应战，由于对新型光刻机的熟悉不足，结果良率低下，很多人抛弃三星。最后三星赔本赚吆喝，开出比台积电低30%的代工费用，才勉强留下大客户。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

有道理。
& _0 o3 }7 y8 W7 o3 R
9 ?( o5 H, P2 w+ \6 y4 J不过现在看尼康和佳能的光刻机，总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦，就用最小投资吊着。不退场，但也不全力以赴。

: q- V2 I( R# \$ J+ C. e! _中国肯定是全力以赴的。而且倾国之力肯定大于尼康、佳能。

这会有差别吗？

晨枫

沉宝 发表于 2024-9-16 21:08
理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程，需要各方面不断打磨，才能接近理想的结果。现实中的例子，台积 ...

: B9 K  b$ i( `- k- n$ U6 O这倒是个问题。都说韩国人拼，看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。

雷声

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

% I: f. p3 e1 ~0 B; k0 @) r" {还没搞定？
/ h( K" Z1 n" b8 w9 i) u我可能是09年去给Nikon做实验，他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡，想买个做实验的系统。我在的小破公司搭了一个，然后过去一起做，看能不能用。那个时候估计还是早期，这些基础的问题都没个数。做了几个实验，证明可以捕捉到微气泡发生，成长和运动的轨迹，我就撤了。这都十五年过去了。
尼康那时候已经有点不灵的迹象，食堂里面睡满了安装队的人。正常的话那些人都是满世界跑给别人装机器的。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
- k% N: ]% n0 t' y. y) ?# E% V) F! R所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

$ ^" {8 W  z/ c0 U0 o# Z  \突然想起来：现在就聚焦于逻辑芯片，存储芯片用的芯片技术一样吗？前一段听说长江还是谁的128还是256层NAND也被卡了，因为光刻机的事，这说法准确吗？高端NAND需要多少nm节点的光刻机？

雷声

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
有道理。
6 e/ f+ W9 {& I
不过现在看尼康和佳能的光刻机，总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦，就用最小投资 ...

' V9 ]; L2 l6 k: ?可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的，可是政府也难呐，到处都是嗷嗷待哺的嘴，捉了个虫也不知道塞哪张嘴里。
1 V0 U9 O  m* X很多年前日本媒体评价日本财政用了很形象的词，叫硬直化。所有的钱都有定好的用处，几乎没有活动钱。需要财政支持的时候十分狼狈。该做的事情做不了，钱全都拿去维持日常运转了。

moletronic

雷声 发表于 2024-9-16 19:19
还没搞定？
我可能是09年去给Nikon做实验，他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡，想买个做实验的 ...

  ~6 t- R" X) O
Nikon是稳定性不行，被牙膏退货后就没人再买。疫情前去开spie的会，Nikon还吹牛自己行了，但主流客户没人用。
有网上谣言说华为买了些Nikon自己魔改做出了9100…俺比较怀疑真实性。

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:21
. U  ^3 w% g  F) S7 Z突然想起来：现在就聚焦于逻辑芯片，存储芯片用的芯片技术一样吗？前一段听说长江还是谁的128还是256层NA ...

存储和逻辑的工艺重点不一样，节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 21:31
存储和逻辑的工艺重点不一样，节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。 ...

  ~2 {2 n1 H' j需要用到浸润DUV吗？

7 `0 n, l2 h6 u我的问题其实是：65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗？

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:34
需要用到浸润DUV吗？
$ a+ i. }' ~+ `& K
我的问题其实是：65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗？ ...

浸水还是要的，这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。

晨枫

雷声 发表于 2024-9-16 21:23
" C. Z6 M$ X: ~  c6 Y5 H' L可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的，可是政府也难呐，到处都是嗷嗷待哺的嘴，捉了个虫也不知道塞 ...

' f+ k& P( S' m' J1 X- S9 N是的，需要钱的地方太多，但光刻机和芯片可能是不计代价砸钱的方向，优先级比谁都高。这个瓶颈突破后，不只是军事、科技上的阳关道，经济上也是大片的处女地啊。
  B" N% i* y1 z" O/ |, S& u2 f# T
2 [  s) s! N" a0 l; h硬直化很形象。确实，西方家大业大，花钱手笔也大，但每一笔钱都预定了用处，活动余地真心很小。你看看美国在预算削减时那个鸡飞狗跳，就知道真是谁都动不得。“平均剃头”是公认的最坏选择，但是唯一大家可接受的选择。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 21:37
, B$ v- y& K3 P5 Y浸水还是要的，这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。 ...

都说工信部这光刻机不是浸润式，但193nm光源，65nm分辨率，正好是2*1.44倍，是不是太巧了？

沉宝

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
; r$ E! W# a: \按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

& I7 @$ B  W: w# u  Z& V具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点，这个温差会让水的密度不均匀，从而折射率不均匀，影响成像。为了避免温差，必须让水快速流动混合，但又要避免产生漩涡或者析出气泡。水可以把所接触物品上的杂质洗下来，带到晶圆上，形成缺陷。当初ASML搞浸润式光刻机时，在浸液系统上与林本坚团队合作，方案修改了7-8回，耗时两年多才取得满意的结果。

moletronic

6 G5 n2 l( d5 s* l+ G

沉宝 发表于 2024-9-16 19:43
. H  H% \( P' u( ]: g) J' }具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点，这个温差会让水的密度不均 ...

这当然不容易，不过两年挺快啦，看看牙膏的10nm……

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:40
( H' `' z4 I& e# f8 R# C8 u都说工信部这光刻机不是浸润式，但193nm光源，65nm分辨率，正好是2*1.44倍，是不是太巧了？ ...

. W$ T( K# Q' ~0 m+ U不知道啦，也许是隐晦放风的说法。

hsb

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
- |4 U' @' G# ?2 e, @, ~这倒是个问题。都说韩国人拼，看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。 ...

' x. v4 Q/ u% D* G中国大，各地方人气质不一，各擅胜场。精细活儿江南地方超过东北山东。如此说来，韩国近东北山东，台湾精英是江浙后代。