TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
! A4 O. w) ^7 X8 `* n$ L& |( H4 I也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！ A `0 }5 v/ Z! I/ K' e* e
+ T: g, t, a: c2 r" v个人感觉：相比于前一阵 ...
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/ {' S7 k$ ^* y' j4 o# o2 f w6 b应该会在5年内实现吧。
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+ Y' x/ C2 V+ E* C微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
! ^' r# t" T7 u2 d24-9-16 23:551 i0 u. P0 N% B& _0 `% H) t% _
发布于 湖南
! l$ H5 \3 c2 ~来自 微博网页版3 h9 Q1 ]$ c, U( b2 V' G
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机( B/ a+ |+ ?0 q# {
不是运过来就能直接开工的。+ n1 t4 e. M3 m; y
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长，也是我常年说：
- S! Z" t) p+ S. m% [) T: L+ V0 S就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。5 i. F ~" \) U H
$ j4 e9 G- x' \! j0 I现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。3 s' ~8 P X" A* n! p1 d" p
7 C" a7 u) L' m5 ]2 f简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。( }' e2 I( j; k6 @& D4 u5 X
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）3 A) S ]% w- e$ k: `
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
, ^2 ~$ { r! c0 t6 D但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
9 _+ X2 @$ l* {0 v; c" ?, T普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。8 {, Q& h+ _+ h
#华为mate70# 也没多久了。+ {' A! i* p6 G1 N% P' q0 H
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20