TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
* x- [0 s$ S4 l4 I也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!" n! P) |# ^& X5 Z* ~
) T* N! m: y. U4 R( i' U/ T1 d个人感觉:相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。. G; R9 L3 X) {' ]9 H" z
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微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
+ s& ]' S, ?( T4 ~9 n2 L24-9-16 23:55- \2 S$ j" E( C/ c5 Y
发布于 湖南% A: f* x3 Y& g) T
来自 微博网页版4 W5 J2 a' o r# V% L2 l
啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机
( M4 a( E$ W2 t. m不是运过来就能直接开工的。
: ?; ^% s/ v' g# Z0 M9 X他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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9 z5 t' d+ T3 `这个时间很长,也是我常年说:- e, l4 ?8 E1 L) b' {
就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。9 j& A+ r* t; Y3 s) @2 K* j" D
8 N5 a8 Q3 l& y# m( A简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。4 {* u, Y4 J; m3 O( u
干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
9 l+ c% B+ v; @ V多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)
* x5 k ]6 ?* e+ e" a" y) a& Q3 x+ n但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
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9 C% z- [$ D" h/ @ ?% a没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。+ h) B( U4 ]! w( s" j
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。6 V' g* v8 G' T" S( Y: F$ A
#华为mate70# 也没多久了。/ ?% r: D5 o& Y+ W: i
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