TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00/ A0 _* }9 C+ i, c
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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3 s. H5 m: H* p c个人感觉：相比于前一阵 ...
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# f0 u) f% p7 R; G应该会在5年内实现吧。# t# |& I+ P6 f& J- [
1 y* `; R4 ^+ ^- ~# y7 R微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
8 S! Q5 s! Z) y4 [! a2 @2 ^$ M24-9-16 23:550 z- S$ S+ O1 m* q# N& N
发布于 湖南! y3 v8 {0 r k" b& F
来自 微博网页版
8 [; w/ q0 ~* ~3 \; M% }啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
$ h5 t+ g$ u( n+ j不是运过来就能直接开工的。+ A# f8 Q2 ^- u# _
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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$ h x2 s. |* b1 C" z. K- i; m这个时间很长，也是我常年说： v6 q: ]. p3 L/ e4 J$ z
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。, `3 v; c" x* X; a
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。& ?" E% V, [! \. C! c- B
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
( b4 ?: ?4 P3 S多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
) a2 l$ i2 ]+ a, F" `但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了3 ], h/ A+ x2 H! l7 l; B
; U, K n1 g. C+ U/ P没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
. j$ h$ g4 N, B& x普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。) `, \1 \4 ?1 ]. ^1 X0 z- M& C$ h
#华为mate70# 也没多久了。! y3 k; U6 f1 C2 l3 E( f4 X5 @7 G
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20