TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
$ F! V( Z0 k T+ Z# _4 k也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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. `- [+ _; X, V0 J" M4 a* v个人感觉：相比于前一阵 ...
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1 v: N- M& i1 S4 j& y B应该会在5年内实现吧。% q3 Q$ R9 Z2 k% C! w
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）/ w W2 c) l5 ~; P
24-9-16 23:55+ h9 F7 X2 h+ N. R. S5 m
发布于 湖南
$ S( ~9 M$ }4 c3 W来自 微博网页版
, r( d5 z" ~7 g啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
) k# L: L' X' \% _' _ L不是运过来就能直接开工的。
# c+ W, N; _; d. k7 X他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
, p- F' b* q+ n4 Q t# Z7 T" J4 R; c+ k+ E
* K. k2 ~* E( _: e# I% H6 Q1 Q这个时间很长，也是我常年说：1 a) I' n5 o$ U: ?5 H7 e* i/ U
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。3 X. R( {6 X4 [- ~
3 t. q7 ^, E# Z( f3 Q, I7 c2 n1 |简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。$ c7 y9 S! G- ]6 ]
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）( Y. A3 u4 n' f, J1 ^ {8 s
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
1 i0 N/ S* q) W4 z% N但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了* b& ^' p4 s! B1 q1 o$ r
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
$ G4 }4 e: d" Y \2 K( O. p2 p- r- D普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。) y) O- B5 I* k5 k9 P) J
#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20