TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:003 N% M6 c6 {( [2 P& z
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！$ P. p& S8 h/ f+ X& q# X$ z
! l: C. b5 _0 I# _5 p, f2 x# b个人感觉：相比于前一阵 ...
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) n' m7 n$ P! a( G! N2 \应该会在5年内实现吧。! w- C( d, {* f6 ]1 }
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
- W) V! u$ |4 P1 N24-9-16 23:55 g% K6 D# h2 C. x- y
发布于 湖南
( F+ I3 f+ f1 B0 L+ s# |来自 微博网页版; i* W1 ?0 J7 Q( c
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
0 P$ h! S7 e# C不是运过来就能直接开工的。/ G6 c2 p! F/ }3 g" \/ S
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长，也是我常年说：
. d2 [9 o+ {) L! c就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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/ t) U% `! }' p+ u4 i现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。$ V6 P0 n! c5 c( U) w; R
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
. i& X% b5 Q9 W9 G: c) z干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）4 i; Q7 C0 T2 a6 Z
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）, n$ H+ {0 y! g& v& X
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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* m# j! G/ ?- x# B. n没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
" E/ ]& M* c2 t/ J! z( e普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
: Z. r( w9 E) U; j& h: t1 p# e#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20