TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
5 w: P4 E- {7 k1 h6 z也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事! g2 N9 J' H8 O8 z6 i
% I) O* n$ y3 O) _9 q个人感觉:相比于前一阵 ...
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5 u5 ~1 s7 j4 a* B应该会在5年内实现吧。
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6 a* B2 k& i6 f: l7 a微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)+ j/ O0 M& N8 m3 A4 w8 V; ]1 y
24-9-16 23:55
/ r0 M( I) g' Z$ |9 b: [ k' ?发布于 湖南
: J- P3 g' N: i; O c, L+ X来自 微博网页版! j! J3 T, J& x0 j
啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机) |% [: j( k6 u# _0 V
不是运过来就能直接开工的。( j. b4 p. @% v, V% F; o, s3 [% M5 R
他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长,也是我常年说:" p# H" S% q6 y: Y6 F3 u
就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。, P( L7 w; ~) u. z3 F
3 I1 B& ?0 f6 k( f& F( s$ i& J现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
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简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。
' M& A3 B. Y0 z. T; Z+ S) e干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
9 b# Y$ v F2 O, L' \5 g, d. k: m多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)
, a# ]4 `- \; D% h但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
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没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。1 ^5 T! a q: Z
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。/ U% ^4 y: F$ e3 C
#华为mate70# 也没多久了。7 W8 Z0 U0 { V4 t
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