TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:009 F' o# c# X2 D8 C8 I3 {8 z
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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7 c" b" f, b0 ~+ W3 X% e0 N个人感觉：相比于前一阵 ...
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8 p6 P* u6 w+ V2 x# e应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
) X G2 { c }9 I24-9-16 23:55- @# e0 A; B0 N! w9 ^- X6 f# }
发布于 湖南
9 ~( X9 ?: P/ |! P8 X/ E# B' ^来自 微博网页版! {" i9 y# W5 D! G+ m4 b
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机/ z- h4 ?. e( |3 H+ C+ b
不是运过来就能直接开工的。
% P1 f$ A8 M& h; J他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。6 T) W8 P! H+ z, j0 S- j5 g
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这个时间很长，也是我常年说：
9 D) V1 `* @6 J) Z' N8 `# u9 k" _就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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" f, {7 e3 G8 @& D简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。0 Q% K8 v& y: _/ p7 J8 r
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
* T" \2 {% c7 y6 g" N# _多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
. f/ x7 X7 h8 g) `2 g4 e5 v3 ]但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。( }6 L' G; g9 {+ h7 B1 K/ J, r: D
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
! Z* O7 ]/ L. V! @/ l. ^#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20