TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:003 N% M6 c6 {( [2 P& z
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!$ P. p& S8 h/ f+ X& q# X$ z
! l: C. b5 _0 I# _5 p, f2 x# b个人感觉:相比于前一阵 ...
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) n' m7 n$ P! a( G! N2 \应该会在5年内实现吧。! w- C( d, {* f6 ]1 }
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微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
- W) V! u$ |4 P1 N24-9-16 23:55 g% K6 D# h2 C. x- y
发布于 湖南
( F+ I3 f+ f1 B0 L+ s# |来自 微博网页版; i* W1 ?0 J7 Q( c
啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机
0 P$ h! S7 e# C不是运过来就能直接开工的。/ G6 c2 p! F/ }3 g" \/ S
他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长,也是我常年说:
. d2 [9 o+ {) L! c就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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/ t) U% `! }' p+ u4 i现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。$ V6 P0 n! c5 c( U) w; R
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简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。
. i& X% b5 Q9 W9 G: c) z干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)4 i; Q7 C0 T2 a6 Z
多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个), n$ H+ {0 y! g& v& X
但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
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* m# j! G/ ?- x# B. n没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
" E/ ]& M* c2 t/ J! z( e普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
: Z. r( w9 E) U; j& h: t1 p# e#华为mate70# 也没多久了。
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