TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00$ k6 O7 b7 ?' d/ J8 U6 C
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!* p1 O6 ^, O0 G9 d( m' i8 Q
7 G) n% u5 u9 y/ ]" B- N, c' P8 w个人感觉:相比于前一阵 ...
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; a3 \1 u( I% O3 P应该会在5年内实现吧。! V/ y6 n& P9 a1 ^4 G) l$ J
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微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
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1 @" P1 Z, n, @) d4 z* D9 m发布于 湖南, j/ f6 A! Z; D5 Q7 F
来自 微博网页版: M' J f2 J( {$ W4 q; Y
啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机& Q( |. D* L& g3 P8 x3 T
不是运过来就能直接开工的。
$ T- x/ k1 g( a他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。* ^$ q6 q+ u& M! v/ p# g
2 V1 Y! X9 z4 b0 s3 f9 B- Y. i# Y这个时间很长,也是我常年说:! i. R* z, `0 m/ i# C
就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。: S9 m+ P7 x9 ^+ o3 X+ x
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。9 O% N* X2 t- }5 g q% z3 G
6 Q0 ?/ ^2 L' J* m* o简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。
( `5 s& v2 ]1 P7 O干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
% j$ G! @. g' ]3 C8 I1 w% C多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个). A/ {: R9 D" W* H, V$ h' N
但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了" C, j2 V4 \: N* g( P4 @0 L4 w
6 |& d. {! `, [- D8 _. d没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。7 Z3 w9 W8 Z: [
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
8 _2 Z0 L+ |( w# V4 ]! g#华为mate70# 也没多久了。6 ~9 O5 q( P) l1 T0 B: t
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