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[科普知识] 国产光刻机猜测

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  • TA的每日心情
    慵懒
    2022-8-27 22:14
  • 签到天数: 351 天

    [LV.8]合体

    21#
    发表于 2024-9-17 08:06:46 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
    * x- [0 s$ S4 l4 I也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!" n! P) |# ^& X5 Z* ~

    ) T* N! m: y. U4 R( i' U/ T1 d个人感觉:相比于前一阵 ...

    , ?8 D$ T- s( o: A- _( t- p4 E% d$ `! p* ?% M+ d4 ?* d
    这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。
    * {- ^2 s' H# P. G. z. F2 H1 ~
    应该会在5年内实现吧。. G; R9 L3 X) {' ]9 H" z
    ! ~5 T0 r+ N" j' R  H
    微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
    + s& ]' S, ?( T4 ~9 n2 L24-9-16 23:55- \2 S$ j" E( C/ c5 Y
    发布于 湖南% A: f* x3 Y& g) T
    来自 微博网页版4 W5 J2 a' o  r# V% L2 l
    啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机
    ( M4 a( E$ W2 t. m不是运过来就能直接开工的。
    : ?; ^% s/ v' g# Z0 M9 X他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
    / V+ ?5 }, J4 V4 U
    9 z5 t' d+ T3 `这个时间很长,也是我常年说:- e, l4 ?8 E1 L) b' {
    就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
    ! N1 c* B& h( U6 j1 Y! H9 b! ]' u% Z$ g# o/ _
    现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。9 j& A+ r* t; Y3 s) @2 K* j" D

    8 N5 a8 Q3 l& y# m( A简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。4 {* u, Y4 J; m3 O( u
    干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
    9 l+ c% B+ v; @  V多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)
    * x5 k  ]6 ?* e+ e" a" y) a& Q3 x+ n但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
    ( j! v2 C2 r4 B. o& @
    9 C% z- [$ D" h/ @  ?% a没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。+ h) B( U4 ]! w( s" j
    普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。6 V' g* v8 G' T" S( Y: F$ A
    #华为mate70# 也没多久了。/ ?% r: D5 o& Y+ W: i

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    这真是极好的: 5.0
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      发表于 2024-9-18 15:38
    给力: 5 涨姿势: 5 这真是极好的: 5
      发表于 2024-9-17 08:38
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    [LV.Master]无

    22#
     楼主| 发表于 2024-9-17 08:15:36 | 只看该作者
    老财迷 发表于 2024-9-16 16:06
    2 Y1 D( O" c$ N) ^8 L应该会在5年内实现吧。
    & _! Y7 J) ?) ]9 o: Q6 g, J  N& R" I  t) V; E5 R
    微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
    0 L/ s, v/ `- K" {/ Y

    * ]+ s, W: B8 ~, X9 h这个有点扯,新机到货后肯定要调试的,但绝对用不了两年的时间。

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    以你说的为准 :)  发表于 2024-9-17 15:27

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    23#
    发表于 2024-9-17 08:39:20 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 18:15
    4 A: }" Y0 Y4 Z+ M( l( C  Z这个有点扯,新机到货后肯定要调试的,但绝对用不了两年的时间。

    ! k) L+ K, r5 U但干式到浸润的步子没那么大,这说对了吗?
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    [LV.Master]无

    24#
     楼主| 发表于 2024-9-17 10:54:17 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 18:56 编辑   a3 x+ S# C7 k: \
    晨枫 发表于 2024-9-16 16:39- f) D6 Z% x3 _' A' E5 g: L, o
    但干式到浸润的步子没那么大,这说对了吗?
    9 F; \7 e4 |5 R9 P

    ' }" t6 q- E& s% q按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定# k" v* ~* I7 L1 m' V3 ~
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述

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    25#
    发表于 2024-9-17 11:08:25 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 03:34
    3 L! _. |2 d  ]7 w不过EUV制作7nm可以轻易一次曝光,产率和良率应该提高很多?

    5 }  c7 ^1 y- G1 Q% Q, B, [  V0 L! ~理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程,需要各方面不断打磨,才能接近理想的结果。现实中的例子,台积电用193nm光刻机率先量产7nm,三星则以更先进的EUV光刻机应战,由于对新型光刻机的熟悉不足,结果良率低下,很多人抛弃三星。最后三星赔本赚吆喝,开出比台积电低30%的代工费用,才勉强留下大客户。

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      发表于 2024-9-17 15:28

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    26#
    发表于 2024-9-17 11:13:01 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 20:543 P/ H) g% Y5 o
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
    ( I) H3 b7 g$ X" T% T4 P5 a所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...
      U! U. |5 C2 k. d3 i9 J, S$ b* I% c
    有道理。3 p1 e' J$ e$ ~) Y' n8 V
    9 k' U# }5 D  z* o! b* {
    不过现在看尼康和佳能的光刻机,总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦,就用最小投资吊着。不退场,但也不全力以赴。! G% Q9 E, ~7 q* R
    5 l0 ~; U( E+ S0 z
    中国肯定是全力以赴的。而且倾国之力肯定大于尼康、佳能。. L9 ]; Y$ Q$ T# g, t3 w

    & j0 t% C7 P& |. Q4 @- H( |这会有差别吗?
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    27#
    发表于 2024-9-17 11:13:37 | 只看该作者
    沉宝 发表于 2024-9-16 21:08# A% M5 I% u+ {0 p9 j$ o
    理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程,需要各方面不断打磨,才能接近理想的结果。现实中的例子,台积 ...
    ; `7 z/ M  X" b  [9 x5 h: x
    这倒是个问题。都说韩国人拼,看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。
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    28#
    发表于 2024-9-17 11:19:08 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-17 10:54% I- s' u' q, n9 |: W2 M
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
    # [- [5 o9 \! W2 s4 J# z8 ]所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

    , e* s3 M" U4 W8 G: ?" c# m还没搞定?
    ' }: j0 \5 o5 o, U  y1 @" O/ {$ O我可能是09年去给Nikon做实验,他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡,想买个做实验的系统。我在的小破公司搭了一个,然后过去一起做,看能不能用。那个时候估计还是早期,这些基础的问题都没个数。做了几个实验,证明可以捕捉到微气泡发生,成长和运动的轨迹,我就撤了。这都十五年过去了。
    " |, O- X1 U' Q' v1 L) p3 I1 J, E尼康那时候已经有点不灵的迹象,食堂里面睡满了安装队的人。正常的话那些人都是满世界跑给别人装机器的。- e# q+ R3 u3 X2 Y" f1 E

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    坛里藏龙卧虎啊  发表于 2024-9-17 15:31

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    29#
    发表于 2024-9-17 11:21:47 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 20:54+ o4 o+ G7 a* a$ T( n$ M2 D
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定" {# [4 {! A9 p. R
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

    0 N5 s) q: V' L( @6 V8 F7 R% T突然想起来:现在就聚焦于逻辑芯片,存储芯片用的芯片技术一样吗?前一段听说长江还是谁的128还是256层NAND也被卡了,因为光刻机的事,这说法准确吗?高端NAND需要多少nm节点的光刻机?
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    30#
    发表于 2024-9-17 11:23:33 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
      f5 Y2 M" x! S3 l, p3 ]0 ~( K有道理。9 Y8 ?: \5 x/ y

    . k, z) P$ P" k不过现在看尼康和佳能的光刻机,总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦,就用最小投资 ...
    . N3 t+ |# N8 U+ u4 P: T: r0 N
    可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的,可是政府也难呐,到处都是嗷嗷待哺的嘴,捉了个虫也不知道塞哪张嘴里。
    9 Y  G8 Q5 f) g% w2 A很多年前日本媒体评价日本财政用了很形象的词,叫硬直化。所有的钱都有定好的用处,几乎没有活动钱。需要财政支持的时候十分狼狈。该做的事情做不了,钱全都拿去维持日常运转了。

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      发表于 2024-9-17 15:32

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    31#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:28:54 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 19:33 编辑 0 L+ n8 H% k; g3 U: g
    雷声 发表于 2024-9-16 19:19
    8 [) z2 Q8 I8 B, R还没搞定? , ~: K; Y3 M) o1 ?5 ]+ X8 n5 m
    我可能是09年去给Nikon做实验,他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡,想买个做实验的 ...
    1 I! }9 c/ E: s. A4 g9 l5 S. Y

      `+ Q' G  V/ t4 SNikon是稳定性不行,被牙膏退货后就没人再买。疫情前去开spie的会,Nikon还吹牛自己行了,但主流客户没人用。
    $ y/ Q/ O3 K; J* S% ?8 a有网上谣言说华为买了些Nikon自己魔改做出了9100…俺比较怀疑真实性。
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    32#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:31:01 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:21
    5 I. ~' u7 l- ~& {5 v: @: K3 I0 S突然想起来:现在就聚焦于逻辑芯片,存储芯片用的芯片技术一样吗?前一段听说长江还是谁的128还是256层NA ...

    ! T! a6 W! ?% ^4 F! q8 B存储和逻辑的工艺重点不一样,节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。
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    33#
    发表于 2024-9-17 11:34:00 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 21:316 P: G! c+ t0 m- U
    存储和逻辑的工艺重点不一样,节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。 ...

    ! ^! F9 c' F+ s9 p% u$ T3 q+ i需要用到浸润DUV吗?
    - e* \' ^9 c) w5 @6 L4 _
    3 L+ b$ C$ U' E1 \. F7 E' e! \3 m我的问题其实是:65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗?
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    34#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:37:50 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:34
    ( j" u. y, Q* `/ {/ ^. G需要用到浸润DUV吗?
    6 d3 \: q  g  D
    ( Y, q, }( f; a! p- H- L5 [我的问题其实是:65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗? ...
      B) }7 x( u" N
    浸水还是要的,这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。
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    35#
    发表于 2024-9-17 11:38:06 | 只看该作者
    雷声 发表于 2024-9-16 21:23
    ( M" ?- u  Q4 m$ @% S1 D可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的,可是政府也难呐,到处都是嗷嗷待哺的嘴,捉了个虫也不知道塞 ...
    8 Y& ?5 m: E/ w/ e4 _1 S6 x  R! ?  L
    是的,需要钱的地方太多,但光刻机和芯片可能是不计代价砸钱的方向,优先级比谁都高。这个瓶颈突破后,不只是军事、科技上的阳关道,经济上也是大片的处女地啊。
    6 o, ?, A8 u( @' v. G% _  L3 @% z6 `" e& _4 B: S$ u& D2 C! q3 ]
    硬直化很形象。确实,西方家大业大,花钱手笔也大,但每一笔钱都预定了用处,活动余地真心很小。你看看美国在预算削减时那个鸡飞狗跳,就知道真是谁都动不得。“平均剃头”是公认的最坏选择,但是唯一大家可接受的选择。
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    36#
    发表于 2024-9-17 11:40:47 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 21:370 F  j& _6 `' O9 E" L! P
    浸水还是要的,这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。 ...

    # Z7 m: f* L. P0 A$ p都说工信部这光刻机不是浸润式,但193nm光源,65nm分辨率,正好是2*1.44倍,是不是太巧了?
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    37#
    发表于 2024-9-17 11:43:29 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-17 10:54& e. q: s, H5 N5 u  X# o! ~
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定2 r3 p  C  C& P# d' r  p9 J. {
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

    5 i- o( L' X, j具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点,这个温差会让水的密度不均匀,从而折射率不均匀,影响成像。为了避免温差,必须让水快速流动混合,但又要避免产生漩涡或者析出气泡。水可以把所接触物品上的杂质洗下来,带到晶圆上,形成缺陷。当初ASML搞浸润式光刻机时,在浸液系统上与林本坚团队合作,方案修改了7-8回,耗时两年多才取得满意的结果。

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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    38#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:59:49 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 20:02 编辑 5 h- W  Z  `1 d/ M( l- }8 c" L; @
    沉宝 发表于 2024-9-16 19:43+ C* s' ]7 |( G3 d. E
    具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点,这个温差会让水的密度不均 ...
    8 q; P# Q- e8 o/ X# C. A& Y- l  y9 ?

    + X2 D/ H2 C9 W2 u2 U这当然不容易,不过两年挺快啦,看看牙膏的10nm……
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    39#
     楼主| 发表于 2024-9-17 12:01:58 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:40, u% e! u4 o" D& e
    都说工信部这光刻机不是浸润式,但193nm光源,65nm分辨率,正好是2*1.44倍,是不是太巧了? ...
    ( ?/ i5 L, @( Z0 Q  M+ ^4 j
    不知道啦,也许是隐晦放风的说法。
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    40#
    发表于 2024-9-17 17:38:39 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
    / ?0 o. p6 }: |5 C这倒是个问题。都说韩国人拼,看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。 ...

    # R& q; P' ]7 R8 H中国大,各地方人气质不一,各擅胜场。精细活儿江南地方超过东北山东。如此说来,韩国近东北山东,台湾精英是江浙后代。
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