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[LV.Master]无
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[LV.9]渡劫
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马鹿 发表于 2024-9-15 04:181 i7 e. I0 |5 Q$ l/ R: U: h 我还以为你才30多岁。。。
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[LV.4]金丹
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[LV.8]合体
moletronic 发表于 2024-9-16 09:46& d3 w: }9 Y" s; t9 J& l \ 公布的参数只能确定的说解决了65nm的有无问题,对于代工厂来说要不要用还有几个关键参数没说。比如生产速度 ...
老财迷 发表于 2024-9-15 21:19 ) `! V7 H& z! T3 ~4 _/ M* }7 M感谢感谢% ?/ f9 ]( I6 U9 K" f5 a - U: z4 V; p% E: R7 C工信部公布的是:2.1.6 氟化氩光刻机 晶圆直径:300mm;照明波长:193nm;分辨率≤ ...
晨枫 发表于 2024-9-16 14:00 : {$ w& F+ X4 Q3 z* L$ z8 Z也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事! 2 L& K) y3 f+ b+ \5 U6 S" y& E, M8 i8 b( n: n 个人感觉:相比于前一阵 ...
moletronic 发表于 2024-9-16 07:42 . D4 J- c8 ?. h; _" a c# ZEUV没有透镜,只有反射镜,整个光学系统完全不同。目前看不会再搞浸水了。 ...
沉宝 发表于 2024-9-16 12:46 * F+ i8 I# w2 Z不存在28nm光刻机,只有28nm工艺节点。 ! S8 C/ U/ D' L3 l x1 g * i7 B; M# T" U* E6 F( f) p& ^从光刻机所用的光源上来说,只有 193 nm (ArF激光) 和 13.5 nm ( ...
晨枫 发表于 2024-9-16 11:21 : D1 y0 E+ M: b1 ] q' y p! b$ B也就是说,EUV用浸水没有用?
moletronic 发表于 2024-9-16 14:38 & L- j5 A) q5 I) d理论上有用,但目前没看到在路线图上。估计是水对EUV的吸收太大,本来EUV光源的强度就小。 ...
晨枫 发表于 2024-9-16 12:395 W" X ~( {- V8 a- Z+ y3 t 是哦,连透镜都不能用,水可能更加不行了
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