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马鹿 发表于 2024-9-15 04:181 A+ Q5 r4 c& E$ I 我还以为你才30多岁。。。
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[LV.4]金丹
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moletronic 发表于 2024-9-16 09:460 {# y: Y' o4 h8 _" n# ?, S 公布的参数只能确定的说解决了65nm的有无问题,对于代工厂来说要不要用还有几个关键参数没说。比如生产速度 ...
老财迷 发表于 2024-9-15 21:19 . U; l3 c! \. t$ i; s9 S6 X感谢感谢/ j8 y" K/ g5 L4 P! q4 y 0 v+ u6 R3 d1 C* W% |9 e% F工信部公布的是:2.1.6 氟化氩光刻机 晶圆直径:300mm;照明波长:193nm;分辨率≤ ...
晨枫 发表于 2024-9-16 14:00 ! [2 ]5 n z. J4 Q. {9 T也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事! " J7 G4 J0 {+ g$ `) C6 v# t$ N& H8 v' z: Q. B) I 个人感觉:相比于前一阵 ...
moletronic 发表于 2024-9-16 07:42 2 O; Z0 R( n/ H5 LEUV没有透镜,只有反射镜,整个光学系统完全不同。目前看不会再搞浸水了。 ...
沉宝 发表于 2024-9-16 12:46 K6 Y0 e0 e, r0 I6 A. U, N, n不存在28nm光刻机,只有28nm工艺节点。2 q0 m0 h, Q x% I" o # i! X( [* E7 y& b- `" G5 \: v 从光刻机所用的光源上来说,只有 193 nm (ArF激光) 和 13.5 nm ( ...
晨枫 发表于 2024-9-16 11:21 - x; ^; q, q s2 Q, O: i: f5 H也就是说,EUV用浸水没有用?
moletronic 发表于 2024-9-16 14:38 ' J9 Y v' J" A/ K5 U理论上有用,但目前没看到在路线图上。估计是水对EUV的吸收太大,本来EUV光源的强度就小。 ...
晨枫 发表于 2024-9-16 12:39 & P3 S: ~: X/ [0 J是哦,连透镜都不能用,水可能更加不行了
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