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[LV.7]分神
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马鹿 发表于 2024-9-15 04:18; J1 d8 O; C1 N5 I0 n 我还以为你才30多岁。。。
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[LV.4]金丹
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[LV.8]合体
moletronic 发表于 2024-9-16 09:46 ( ]. {. Z- W3 ?3 W+ ]7 {+ |公布的参数只能确定的说解决了65nm的有无问题,对于代工厂来说要不要用还有几个关键参数没说。比如生产速度 ...
老财迷 发表于 2024-9-15 21:193 m5 [' y& V( n8 U 感谢感谢 ) \4 R( F+ ]$ W7 ~) } : ?- f4 j2 I9 u# s, }- B/ A. b% y# n工信部公布的是:2.1.6 氟化氩光刻机 晶圆直径:300mm;照明波长:193nm;分辨率≤ ...
晨枫 发表于 2024-9-16 14:00 % V, W3 n5 ^ o- M* y9 e$ ^也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事! ' _- s# x' d& P1 \5 ?# m7 I D) E2 ^( g5 [3 Y6 @4 i( k 个人感觉:相比于前一阵 ...
moletronic 发表于 2024-9-16 07:42: l$ Z" y& }" { EUV没有透镜,只有反射镜,整个光学系统完全不同。目前看不会再搞浸水了。 ...
沉宝 发表于 2024-9-16 12:46 ! D# F' M4 }, x. {% u8 S不存在28nm光刻机,只有28nm工艺节点。 1 m' x" g* p8 ~9 l6 l 4 M/ R% M6 f% d% N- |0 ]8 I# U从光刻机所用的光源上来说,只有 193 nm (ArF激光) 和 13.5 nm ( ...
晨枫 发表于 2024-9-16 11:21, _/ m% B1 U ^) Y+ u 也就是说,EUV用浸水没有用?
moletronic 发表于 2024-9-16 14:387 v' F$ ~9 n/ e" m$ e; S 理论上有用,但目前没看到在路线图上。估计是水对EUV的吸收太大,本来EUV光源的强度就小。 ...
晨枫 发表于 2024-9-16 12:39 b2 }' G/ ?% l1 o+ @是哦,连透镜都不能用,水可能更加不行了
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