TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00+ Y! G5 W ^$ g8 s+ o2 q# f) R
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！2 w2 u: i0 K" q; |( g7 k
- t! o* R( L% i, c+ Y8 U3 {个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）' k& k: E5 N/ `7 f, ~1 `& x, Q
24-9-16 23:55
v" \1 U: C9 r; w2 ^7 K发布于 湖南
. z( i& E$ C; i& N, O来自 微博网页版
+ ]- }$ w1 P0 J* Y; \1 ~: g啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
. T- B3 W+ p- L% c% N不是运过来就能直接开工的。
, {" W# E& F( i5 j他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长，也是我常年说：
! _/ A7 v, l$ k就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。5 y% H8 {! ?& K2 `
) b- g8 Z7 S H; F! `% W/ s现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。 i; }: f) k' `8 l4 \% C
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。5 S7 I/ |; ~& L3 L& b. }
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）$ k) ~, o% | o" k0 B: E
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
* H2 a8 I3 k( u5 r3 A但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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. J: n6 f1 H) ^没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
8 D$ r, x6 t! f" o& ?: m6 \3 S0 G6 ]( f普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
M' B/ R) Z+ W% N Z: A#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20