TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00" ?# e8 Y1 Z6 t C; s6 R5 z
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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! Q8 Q. u/ \& R+ k* P个人感觉：相比于前一阵 ...
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; ^4 A# O6 m9 C; k# }6 S) o- c: m* ?
应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）0 W9 u* H* @8 Q0 {
24-9-16 23:55; {: P3 N; m, p, b& q5 h8 G' T
发布于 湖南
" U' j- i) U) s& y( \+ ?来自 微博网页版- ]3 \# E9 M. s/ @+ o! g
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机$ I9 F( P& A+ `+ d5 h( [5 u1 ?3 p* p
不是运过来就能直接开工的。+ ^8 v* ?7 }: @) J& h& A: S; `
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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c" D& U7 U7 x8 |( _这个时间很长，也是我常年说：
+ _: j* J& F- L3 H1 U, n) A就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。0 T) j% `+ E6 F- S- T+ d7 K# M
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）3 S/ p6 f3 x( Q" e" ~, L7 q
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
- {! M8 R+ L f! Q0 b但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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5 b7 b# ?8 m8 g C( ~没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
- c- F p; w$ g: c普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
8 L7 Z. [) ^" N6 V9 S#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20