标题: GPU加速光刻:NVIDIA cuLitho的'三神套路'如何挑战摩尔定律 [打印本页] 作者: xiejin77 时间: 2024-8-9 17:03 标题: GPU加速光刻:NVIDIA cuLitho的'三神套路'如何挑战摩尔定律 T教授的回复,让我忍不住思考这样的一个问题。生成式AI的能力该如何应用,或者推而广之AI的能力该如何使用? 7 y6 {! l* p4 I) @' u5 w 7 h5 ^9 }! H! \# }这个问题让我想起来了上半年的一篇旧文,英伟达的老黄鼓捣的新玩意儿,国内很少介绍,但却确实很有趣。 8 Q, u& E/ E, H) d5 ^! r- I5 F! A0 W: P0 E) L
先说我个人的理解,NVIDIA最新推出的cuLitho技术,以及它可能给半导体行业带来的革命性影响。 8 e! D$ V. `% x' x4 `3 N 7 B7 |& U8 m1 |, q |1 |* X8 v8 w不知道爱坛的朋友们玩过《上古卷轴五:天际》吗?游戏里有个著名的"三神套路":玩家通过炼金、附魔、锻造三大技能的相互加成,不断制造出更强大的装备,最终突破游戏设定的能力上限。这个套路让我想到了cuLitho可能带来的效果 - 一种突破摩尔定律桎梏的"三神套路"。 ' {- `- b8 R9 G% e6 x0 u- V) c3 `; _( M6 V/ E2 @" {$ Z
其实芯片制造行业也有类似的困局,随着芯片制程不断缩小,光刻技术面临着前所未有的挑战。计算光刻已经成为半导体生产中最大的计算工作负载之一,需要海量的算力支持。传统的CPU计算已经难以应对,成为制约芯片制程发展的瓶颈。. r7 K. D c9 u9 ^) ~* x
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这就是NVIDIA cuLitho希望突破的地方。它是一套基于GPU加速的计算光刻解决方案,利用GPU强大的并行计算能力,显著提升了ILT(反向光刻技术)、OPC(光学邻近效应校正)等关键环节的计算性能。 : h! }9 m5 Y, W! k+ z( n8 B5 [' \; c7 E, U
cuLitho的核心是一套经过优化的算法库,能够充分发挥GPU的并行计算优势。例如,它将ILT中的Mask Optimization、Fourier Optics Simulation等算法映射到GPU上,利用其强大的矩阵运算和卷积运算能力,实现高效的并行处理。4 l0 L4 d1 L8 E$ C# f& J5 f
$ W6 M7 K; w }( Q$ E1 `5 Q% n更重要的是,cuLitho与主流光刻设备和EDA软件实现了无缝衔接。它与ASML、LAM Research等光刻设备厂商,以及新思科技、Mentor等EDA厂商展开了深度合作,打通了从设计到量产的端到端流程。 9 _0 E& K" N8 J' I2 p9 i( d& R( H( z
在硬件方面,cuLitho可以灵活部署在NVIDIA各种GPU平台上。据NVIDIA介绍,一个配备500块NVIDIA Hopper GPU并运行cuLitho的系统,可以取代多达40000个CPU,使总拥有成本降低高达90%。& r. o2 S9 q* a* U3 g9 N" |1 y
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那么,cuLitho能带来多大的性能提升呢?根据NVIDIA的数据,与基于CPU的传统方案相比: 0 ^) {# H ] D( k; X& P- cuLitho可以将ILT的计算速度提高40倍,使原本需要数周才能完成的光掩模制造任务在一夜之间完成。" }/ y+ d# Z8 b
- cuLitho可以将掩模生产效率提高3-5倍。& }( e( `/ ~. @' w8 K- X: g, p
- 500个NVIDIA Hopper GPU运行cuLitho,可以取代多达40,000个CPU,所需功耗仅为1/9,占地面积也降至1/8。' W) ^7 }0 y1 M( \& }( `' ]& L% {' K
" i K5 T* [6 g4 Q6 S N这样的提升意味着什么?制程演进的效率和速度都将得到成倍改善,新技术节点的开发周期有望缩短,从而加快产业创新步伐。更重要的是,当与高NA EUV(高数值孔径极紫外)光刻系统等先进工艺配合时,cuLitho有望进一步突破纳米级乃至埃米级(Angstrom)的微缩尺度,开拓新的设计空间。( a( S* l. [6 y
6 O; H* I! d5 o) G$ c _现在,让我们回到开头提到的"三神套路"。cuLitho是否可能开启一个类似的技术正循环呢?, p' J! \6 w2 h! p
. _0 p2 l. x$ }站在后摩尔时代的十字路口,cuLitho提供了一种"三神套路"式的技术想象:软硬协同、算法优化、生态共建,半导体行业仍有希望不断刷新性能记录、创造新的可能性。就像勇敢的冒险者,armed by the synergies of enchanting, alchemy and smithing,一路披荆斩棘终成一代神话,我们应该期待NVIDIA cuLitho这样的"三神套路"级技术,也许真能助力半导体行业乘风破浪,不断超越自我,书写更精彩的传奇。: e7 d. V9 ?* n
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( C6 h% d' O; O X: S: ]' G作者: moletronic 时间: 2024-8-9 23:20
摩尔定律不是真的物理定律,设计周期缩短无法打破物理极限。OPC只是帮助光刻机挖掘潜力,没法打破阿贝定律。cuLitho就算成了也就是让搞OPC的三家裁员罢了。' {0 B: R2 U: o; a4 }3 @! ^, W. o
顺便,cuLitho是Vivek Singh主导,他是前牙膏厂主管OPC的fellow,算是为牙膏厂10nm失败背锅的之一了。作者: ltpub 时间: 2024-8-10 22:54
光刻的时候掩膜是不是预生成好的,而是实时计算的吗?如果是实时计算的,那么是根据上一层曝光好的晶圆“测量”出的数据吗?作者: moletronic 时间: 2024-8-11 00:44
是预生成的,但每次开发新节点都是一个多次迭代的过程。