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国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收 ...
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新华社成都11月29日电（记者董瑞丰、吴晓颖）国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。
中科院理化技术研究所许祖彦院士等验收组专家一致表示，该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限，建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线，绕过国外相关知识产权壁垒。
光刻机是制造芯片的核心装备，我国在这一领域长期落后。它采用类似照片冲印的技术，把母版上的精细图形通过曝光转移至硅片上，一般来说，光刻分辨力越高，加工的芯片集成度也就越高。但传统光刻技术由于受到光学衍射效应的影响，分辨力进一步提高受到很大限制。
为获得更高分辨力，传统上采用缩短光波、增加成像系统数值孔径等技术路径来改进光刻机，但技术难度极高，装备成本也极高。
项目副总设计师胡松介绍，中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备，打破了传统路线格局，形成一条全新的纳米光学光刻技术路线，具有完全自主知识产权，为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性领域的跨越式发展提供了制造工具。
据了解，这种超分辨光刻装备制造的相关器件已在中国航天科技集团公司第八研究院、电子科技大学、四川大学华西医院、中科院微系统所等多家科研院所和高校的重大研究任务中得到应用。
http://news.sciencenet.cn/htmlnews/2018/11/420549.shtm
中科院理化技术研究所许祖彦院士等验收组专家一致表示，该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限，建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线，绕过国外相关知识产权壁垒。
光刻机是制造芯片的核心装备，我国在这一领域长期落后。它采用类似照片冲印的技术，把母版上的精细图形通过曝光转移至硅片上，一般来说，光刻分辨力越高，加工的芯片集成度也就越高。但传统光刻技术由于受到光学衍射效应的影响，分辨力进一步提高受到很大限制。
为获得更高分辨力，传统上采用缩短光波、增加成像系统数值孔径等技术路径来改进光刻机，但技术难度极高，装备成本也极高。
项目副总设计师胡松介绍，中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备，打破了传统路线格局，形成一条全新的纳米光学光刻技术路线，具有完全自主知识产权，为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性领域的跨越式发展提供了制造工具。
据了解，这种超分辨光刻装备制造的相关器件已在中国航天科技集团公司第八研究院、电子科技大学、四川大学华西医院、中科院微系统所等多家科研院所和高校的重大研究任务中得到应用。
http://news.sciencenet.cn/htmlnews/2018/11/420549.shtm
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发表评论 评论 (9 个评论)
- 回复 天狼星
- 从实验室出来不是要小试 中试 量产三阶段吗？连样机都没有后面更加无从谈起吧。
snail: 现在对这类文科生的报导方式早麻木了。对于我这类在工厂干过活的人来说，样机都是耍流氓，中看不中用。
- 回复 snail
- 心情可以理解，为国强大鼓与呼我们是一样的。但是还是喜欢航母类不急不躁的方式，现在这类表演太多了，都成“核聚变可控发电还有50年成功”式的标准笑语了。
njyd: 起码比起不中看来是个进步，这得一步步来，一口吃不成胖子。
- 回复 snail
- 心情可以理解，为国强大鼓与呼我们是一样的。但是还是喜欢航母类不急不躁的方式，现在这类表演太多了，都成“核聚变可控发电还有50年成功”式的标准笑语了。
天狼星: 从实验室出来不是要小试 中试 量产三阶段吗？连样机都没有后面更加无从谈起吧。
- 回复 jellobean
snail: 心情可以理解，为国强大鼓与呼我们是一样的。但是还是喜欢航母类不急不躁的方式，现在这类表演太多了，都成“核聚变可控发电还有50年成功”式的标准笑语了。[em: ...
